[发明专利]一种保护电子设备屏幕面板的方法

权利要求书

1.一种保护电子设备屏幕面板的方法，其特征在于，在所述屏幕面板表面构造透明涂层以保护所述屏幕面板，其中：

直接以所述屏幕面板为基底或以可贴附于所述屏幕面板表面的贴膜为基底构造所述涂层；

所述涂层隔绝所述屏幕面板表面与外界空气的直接接触并直接暴漏在所述外界空气中；

所述涂层为具有光催化活性的水基型纳米材料固化后形成的透明薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂层是活性成分为二氧化钛晶体的水基型纳米材料固化后形成的透明薄膜。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂层是活性成分为粒径在20纳米以下的二氧化钛晶体的水基型纳米材料固化后形成的透明薄膜。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂层是活性成分为粒径在10纳米以下的二氧化钛晶体的水基型纳米材料固化后形成的透明薄膜。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂层是厚度均匀的透明薄膜。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂层的厚度小于等于50纳米。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包含以下步骤：

预处理步骤，对所述基底需要构造所述涂层的表面进行预处理以增强所述基底的表面的亲水程度；

清洁步骤，对完成预处理的所述表面进行清洁；

镀膜步骤，对完成清洁的的所述表面进行镀膜处理。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述镀膜步骤中，使用二氧化钛晶体的水基型纳米材料进行镀膜处理。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述镀膜步骤中，首先使用纳米基底材料进行镀膜处理，然后使用二氧化钛晶体的水基型纳米材料进行镀膜处理。

10.根据权利要求7-9中任一项所述的方法，其特征在于，在所述镀膜步骤的最后使用带清洁剂功能的二氧化钛晶体的水基型纳米材料进行镀膜处理。

11.根据权利要求7-10中任一项所述的方法，其特征在于，通过喷涂完成所述镀膜处理，在所述镀膜步骤中每完成一层镀膜后将所述基底静置特定时长以固化所述涂层。