[发明专利]显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板，所述衬底基板 上设置有至少两层折射层，在所述折射层上设置有栅极；

相邻两个折射层之中靠近衬底基板的折射层的折射率小于远离 衬底基板的折射层的折射率，所述折射层的厚度为nλ+λ/4，λ为入射 光的波长，n为非负整数。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述折射层 的数量为两层，两层所述折射层分别为靠近衬底基板的第一折射层 以及远离衬底基板的第二折射层。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一折 射层的构成材料包括氮化硅材料，所述第二折射层的构成材料包括 非晶硅材料。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一折 射层的厚度范围包括50nm至60nm，所述第二折射层的厚度范围包 括25nm至35nm或者55nm至65nm。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一折 射层的厚度为55nm，所述第二折射层的厚度为30nm或者60nm。

6.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一折 射层的折射率范围包括1.8至2.2，所述第二折射层的折射率范围包 括4.0至4.8。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述第一折 射层的折射率为2.0，所述第二折射层的折射率范围包括4.4。

8.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至7任一所述 的显示基板。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8所述的显示面 板。

10.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成至少两层折射层，相邻两个折射层之中靠近 衬底基板的折射层的折射率小于远离衬底基板的折射层的折射率， 所述折射层的厚度为nλ+λ/4，λ为入射光的波长，n为非负整数；

在所述折射层上形成栅极。

11.根据权利要求10所述的显示基板的制备方法，其特征在于， 所述在衬底基板上形成至少两层折射层的步骤包括：

在衬底基板上形成第一折射层；

在所述第一折射层上形成第二折射层。

12.根据权利要求11所述的显示基板的制备方法，其特征在于， 所述第一折射层的构成材料包括氮化硅材料，所述第二折射层的构 成材料包括非晶硅材料。

13.根据权利要求12所述的显示基板的制备方法，其特征在于， 所述在所述第一折射层上形成第二折射层的步骤包括：

在所述第一折射层上形成第二折射层薄膜；

在所述折射层上形成栅极的步骤包括：

在所述第二折射层薄膜上形成栅金属薄膜；

对所述第二折射层薄膜和栅金属薄膜进行刻蚀以形成第二折射 层和栅极，所述第二折射层位于所述栅极的正下方。