[发明专利]显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方 法、显示面板和显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，显示装置逐渐向超窄边框化的方向发展， 因此相对于传统的彩膜基板设置在外侧而阵列基板贴着背光设置的 显示装置，现有的显示装置逐渐向阵列基板设置在外侧而彩膜基板 贴着背光设置的方向发展。由于阵列基板设置在外侧，而且阵列基 板的栅极金属线对外界光具有很强的发射作用，因此影响了显示效 果。

为了解决上述问题，现有技术完成对显示面板的制作之后，再 对阵列基板的外表面进行防反射处理，例如，增加玻璃粗糙度或者 贴附防反射膜，但是上述防反射处理的防反射效果不佳，而且提高 了生产成本。另外，现有技术在阵列基板的制备过程之中，形成栅 极之前增加一层防反射膜，所述防反射膜的厚度达到150nm以上， 而且所述防反射膜的反射率只有20％左右。另外，所述防反射膜的 厚度过大使得显示面板的显示区域的平坦度降低，导致cell工艺之 中PI涂覆不良。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供一种显示基板及其制备方法、显 示面板和显示装置，用于解决现有的防反射处理的防反射效果差， 而且防反射膜的厚度过大使得显示面板的显示区域的平坦度低，导 致PI涂覆不良的问题。

为此，本发明提供一种显示基板，包括衬底基板，所述衬底基 板上设置有至少两层折射层，在所述折射层上设置有栅极；

相邻两个折射层之中靠近衬底基板的折射层的折射率小于远离 衬底基板的折射层的折射率，所述折射层的厚度为nλ+λ/4，λ为入射 光的波长，n为非负整数。

可选的，所述折射层的数量为两层，两层所述折射层分别为靠 近衬底基板的第一折射层以及远离衬底基板的第二折射层。

可选的，所述第一折射层的构成材料包括氮化硅材料，所述第 二折射层的构成材料包括非晶硅材料。

可选的，所述第一折射层的厚度范围包括50nm至60nm，所述 第二折射层的厚度范围包括25nm至35nm或者55nm至65nm。

可选的，所述第一折射层的厚度为55nm，所述第二折射层的厚 度为30nm或者60nm。

可选的，所述第一折射层的折射率范围包括1.8至2.2，所述第 二折射层的折射率范围包括4.0至4.8。

可选的，所述第一折射层的折射率为2.0，所述第二折射层的折 射率范围包括4.4。

本发明提供一种显示面板，包括上述任一显示基板。

本发明提供一种显示装置，包括上述显示面板。

本发明提供一种显示基板的制备方法，包括：

在衬底基板上形成至少两层折射层，相邻两个折射层之中靠近 衬底基板的折射层的折射率小于远离衬底基板的折射层的折射率， 所述折射层的厚度为nλ+λ/4，λ为入射光的波长，n为非负整数；

在所述折射层上形成栅极。

可选的，所述在衬底基板上形成至少两层折射层的步骤包括：

在衬底基板上形成第一折射层；

在所述第一折射层上形成第二折射层。

可选的，所述第一折射层的构成材料包括氮化硅材料，所述第 二折射层的构成材料包括非晶硅材料。

可选的，所述在所述第一折射层上形成第二折射层的步骤包括：

在所述第一折射层上形成第二折射层薄膜；

在所述折射层上形成栅极的步骤包括：

在所述第二折射层薄膜上形成栅金属薄膜；

对所述第二折射层薄膜和栅金属薄膜进行刻蚀以形成第二折射 层和栅极，所述第二折射层位于所述栅极的正下方。

本发明具有下述有益效果：