[发明专利]一种防止镜组雾化的曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器制造技术领域，尤其涉及一种防止镜组雾化的曝光装置及防止镜组雾化的方法。

背景技术

在LCD(Liquid Crystal Display的简称，即液晶显示器)制备过程中，曝光机是制备精细画素图案的关键设备，现有的曝光机结构中，出光的光学腔与用于放置光罩和基板的处理腔是相通的，光学腔发出的紫外光线射入光罩后对基板上的光阻等进行曝光。

但此类接近式曝光机在曝光生产过程中，不可避免地会由于玻璃基板上的光阻挥发物挥发而污染到光学镜组，导致镜组雾化，曝光照度及其均一性恶化，造成产能损失以及产品异常，同时也影响曝光机的使用寿命。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种防止镜组雾化的曝光装置及防止镜组雾化的方法，能够有效降低镜组雾化程度以及清洁镜组的时间，提升产能及曝光装置的寿命。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种防止镜组雾化的曝光装置，包括容纳有光源和第一反射镜的光学腔室、用于放置基板和光罩的处理腔室、连通所述光学腔室和所述处理腔室的光路腔室以及透光的遮挡层，所述第一反射镜朝向所述基板投射光线，所述遮挡层设置在所述第一反射镜的出射光路上，且位于所述第一反射镜和所述光罩之间。

进一步地，所述学腔室还包括依次设置的集光镜、第二反射镜、积光器和第三反射镜，所述光源发出的光线依次经过所述集光镜、所述第二反射镜、所述积光器和所述第三反射镜后，自所述第一反射镜反射至所述光罩。

进一步地，所述第二反射镜和所述第三反射镜分别位于所述光学腔室的光线出口两侧。

进一步地，所述第三反射镜为弧面反射镜。

进一步地，所述处理腔室内的气压大于所述光学腔室。

进一步地，所述遮挡层和所述光罩之间设有真空抽气装置。

进一步地，所述遮挡层设于所述光学腔室内。

进一步地，所述遮挡层为玻璃基板。

进一步地，所述遮挡层与所述处理腔室内的所述基板平行。

本发明的另一目的在于提供一种防止镜组雾化的方法，使用上述的防止镜组雾化的曝光装置。

由于光学腔室与处理腔室之间的光路通道上设有透光的遮挡层，可以阻挡处理腔室内挥发的部分气体流向该光学腔室，间接降低光学镜组的雾化，从而实现更好的光学效果，并能提升产能、增强光学仪器的寿命。

附图说明

图1为本发明实施例的曝光装置的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

参阅图1，本发明的曝光装置能够很好地防止内部的镜组雾化，包括容纳有紫外线光源11和第一反射镜12等镜组结构的光学腔室10、用于放置基板1和光罩2的处理腔室20、连通光学腔室10和处理腔室20的光路腔室30以及透光的遮挡层40，第一反射镜12朝向基板1投射光线，遮挡层40设置在第一反射镜12的出射光路上，且位于第一反射镜12和光罩2之间。

长筒形的光路腔室30连通在光学腔室10的光线出口和处理腔室20的光线入口处，优选遮挡层40设置在光学腔室10内、与光路腔室30的入口相对设置，位于光路腔室30与第一反射镜12之间。

学腔室10除了包括光源11和第一反射镜12，还包括依次设置的集光镜13、第二反射镜14、积光器15和第三反射镜16，光源11安装在弧形的集光镜13内，光源11发出的光线依次经过集光镜13聚焦、第二反射镜14反射、积光器15匀光和第三反射镜16反射后，自第一反射镜12反射至光罩2。这里，较佳地，集光镜13为碗型的反射器，第一反射镜12、第二反射镜14为平面镜，积光器15为起扩散作用的棱镜，第三反射镜16为内表面为弧面或半球面的反射镜，通过调整好其朝向，可使所有自积光器15射到其内表面的光线经第三反射镜16反射后朝同一方向平行射入到第一反射镜12，最终可使自第一反射镜12射出的光线都沿光路腔室30的长度方向射出。