[发明专利]离心机制造方法及系统

权利要求书

1.一种离心机制造方法，其特征在于，所述方法包括：

确定待制造离心机的初始结构参数，所述待制造离心机包括转鼓，所述转鼓内设置有螺旋叶片和溢流口；

根据所述初始结构参数，确定所述溢流口处的第一上浮临界粒度、所述螺旋叶片处的第二上浮临界粒度和所述转鼓内的颗粒能够沉降至转鼓壁面的第三临界粒度；

根据所述第一上浮临界粒度、所述第二上浮临界粒度和所述第三临界粒度对所述初始结构参数进行调整，得到所述待制造离心机的目标结构参数；

根据所述目标结构参数制造离心机；

其中，所述根据所述第一上浮临界粒度、所述第二上浮临界粒度和所述第三临界粒度对所述初始结构参数进行调整，得到所述离心机的目标结构参数，包括：

根据所述第一上浮临界粒度、所述第二上浮临界粒度、所述第三临界粒度对所述初始结构参数进行调整，得到所述离心机的目标结构参数，使得d_c1≤[d]，F[d_c1]≥E_T，d_c2≤d_c1，且d_s≤d_c1；

其中，所述d_c1为根据所述目标结构参数确定的溢流口处的第一上浮临界粒度，所述[d]为工艺分离粒度，所述F[d_c1]是d_c1的筛上累积分布，所述E_T为工艺分离总效率，所述d_c2为根据所述目标结构参数确定的螺旋叶片处的第二上浮临界粒度，所述d_s为根据所述目标结构参数确定的转鼓内的颗粒能够沉降至转鼓壁面的第三临界粒度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述初始结构参数，确定所述溢流口处的第一上浮临界粒度、所述螺旋叶片处的第二上浮临界粒度和所述转鼓内的颗粒能够沉降至转鼓壁面的第三临界粒度，包括：

根据所述初始结构参数，确定第一负径向速度、第二负径向速度以及流体在所述转鼓内的轴向平均速度，所述第一负径向速度为流体在溢流口处的最大负径向速度，所述第二负径向速度为流体在螺旋叶片处的最大负径向速度；

根据所述第一负径向速度确定所述第一上浮临界粒度；

根据所述第二负径向速度确定所述第二上浮临界粒度；

根据所述轴向平均速度确定所述第三临界粒度。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一负径向速度确定所述第一上浮临界粒度，包括：

根据所述第一负径向速度、第一确定公式和第一关联公式，确定所述第一上浮临界粒度，所述第一确定公式为：

v_s(d_c1)+v_r1＝0，

所述第一关联公式为：

其中，所述v_s(d_c1)为第一颗粒沉降速度，所述v_r1为所述第一负径向速度，所述d_c1为所述第一上浮临界粒度，所述Δρ为固液密度差，所述j为离心加速度，所述ρ₁为液体密度，所述η为浓度系数。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述第二负径向速度确定所述第二上浮临界粒度，包括：

根据所述第二负径向速度、第二确定公式和第二关联公式，确定所述第二上浮临界粒度，所述第二确定公式为：

v_s(d_c2)+v_r2＝0，

所述第二关联公式为：

其中，所述v_s(d_c2)为第二颗粒沉降速度，所述v_r2为所述第二负径向速度，所述d_c2为所述第二上浮临界粒度。