[发明专利]掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法有效
| 申请号： | 201610064033.1 | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN105740540B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 张兴洲 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭四华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜版 设计 版图 特征 图形 查找 方法 | ||
1.一种掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤一、对版图的数据图形进行编码，包括如下分步骤：
步骤11、在版图上对所述数据图形划分成多个区域块；
步骤12、根据所述数据图形的各所述区域块中实际有无图形得到对应的所述区域块的1位编码；
步骤13、综合所述数据图形的各所述区域块的1位编码形成对应的所述数据图形的编码值；
步骤二、在所述版图中进行特征图形的查找，包括如下分步骤：
步骤21、采用步骤一的方法得到所要查找的所述特征图形的编码值；
步骤22、将所述特征图形的编码值和所述版图中的各所述数据图形的编码值进行比较；
步骤23、如果所述版图中存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则编码值相同的所述数据图形和所述特征图形相匹配；如果所述版图中不存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则所述版图中漏放了所述特征图形。
2.如权利要求1所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤一中所述数据图形通过对所述版图的数据进行数据区块划分得到。
3.如权利要求1所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤11中一个所述数据图形的各区域块组成二维排列结构。
4.如权利要求3所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤12中，当所述区域块中包括有图形时该区域块的1位编码值为1，当所述区域块中没有图形时该区域块的1位编码值为0。
5.如权利要求4所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤13中，所述数据图形的同一列的各行所述区域块的1位编码值按照权重相加形成的该列对应的十进制数，所述数据图形的各列所述对应的十进制数按照列的顺序进行1维排列形成所述数据图形的编码值。
6.如权利要求4所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤二在所述版图中进行特征图形的查找是通过软件方式自动实现。
7.如权利要求1所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：所述特征图形包括对准标记或测试图形。
8.如权利要求3所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤11中，所述数据图形的各列之间的各所述区域块通过等分形成。
9.如权利要求8所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤11中，所述数据图形的各行之间的各所述区域块通过等分形成。
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