[发明专利]MOSFET阈值电压波动模型的提取方法及装置有效

专利信息
申请号: 201610067356.6 申请日: 2016-01-29
公开(公告)号: CN105653823B 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 高超;孔蔚然 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张凤伟;吴敏
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: mosfet 阈值 电压 波动 模型 提取 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种MOSFET阈值电压波动模型的提取方法,其特征在于,包括:

选取一MOSFET,所选取的MOSFET阈值电压相对设计目标值的偏移量为Vt’;

在所选取的MOSFET栅极施加预设的调节电压,其他各电极施加相应的工作电压,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型,包括以下至少一种:当提取所选取的MOSFET阈值电压偏移△V的模型时,所述预设的调节电压为所选取的MOSFET栅极的工作电压与△V的差再与Vt’求和,△V>0;当提取所选取的MOSFET阈值电压偏移-△V的模型时,所述预设的调节电压为所选取的MOSFET栅极的工作电压与△V求和再与Vt’求和,△V>0。

2.如权利要求1所述的MOSFET阈值电压波动模型的提取方法,其特征在于,所述MOSFET的工作电压,与所提取到的阈值电压波动模型实际应用电路情况以及所述MOSFET的制造工艺相关。

3.一种MOSFET阈值电压波动模型的提取装置,其特征在于,包括:

选取单元,适于选取一MOSFET,所选取的MOSFET阈值电压相对设计目标值的偏移量为Vt’;

提取单元,适于在所选取的MOSFET栅极施加预设的调节电压,其他各电极施加相应的工作电压,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型;所述提取单元包括第一提取子单元及第二提取子单元中的至少一种;其中:

所述第一提取子单元,适于在当提取所选取的MOSFET阈值电压偏移△V的模型时,在所选取的MOSFET栅极施加所述调节电压,且所述调节电压为所选取的MOSFET栅极的工作电压与△V的差再与Vt’求和,△V>0,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型;

所述第二提取子单元,适于当提取所选取的MOSFET阈值电压偏移-△V的模型时,在所选取的MOSFET栅极施加所述调节电压,且所述调节电压为所选取的MOSFET栅极的工作电压与△V求和再与Vt’求和,△V>0,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型。

4.如权利要求3所述的MOSFET阈值电压波动模型的提取装置,其特征在于,所述MOSFET的工作电压,与所提取到的阈值电压波动模型实际应用电路情况以及所述MOSFET的制造工艺相关。

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