[发明专利]MOSFET阈值电压波动模型的提取方法及装置有效
申请号: | 201610067356.6 | 申请日: | 2016-01-29 |
公开(公告)号: | CN105653823B | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 高超;孔蔚然 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张凤伟;吴敏 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | mosfet 阈值 电压 波动 模型 提取 方法 装置 | ||
1.一种MOSFET阈值电压波动模型的提取方法,其特征在于,包括:
选取一MOSFET,所选取的MOSFET阈值电压相对设计目标值的偏移量为Vt’;
在所选取的MOSFET栅极施加预设的调节电压,其他各电极施加相应的工作电压,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型,包括以下至少一种:当提取所选取的MOSFET阈值电压偏移△V的模型时,所述预设的调节电压为所选取的MOSFET栅极的工作电压与△V的差再与Vt’求和,△V>0;当提取所选取的MOSFET阈值电压偏移-△V的模型时,所述预设的调节电压为所选取的MOSFET栅极的工作电压与△V求和再与Vt’求和,△V>0。
2.如权利要求1所述的MOSFET阈值电压波动模型的提取方法,其特征在于,所述MOSFET的工作电压,与所提取到的阈值电压波动模型实际应用电路情况以及所述MOSFET的制造工艺相关。
3.一种MOSFET阈值电压波动模型的提取装置,其特征在于,包括:
选取单元,适于选取一MOSFET,所选取的MOSFET阈值电压相对设计目标值的偏移量为Vt’;
提取单元,适于在所选取的MOSFET栅极施加预设的调节电压,其他各电极施加相应的工作电压,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型;所述提取单元包括第一提取子单元及第二提取子单元中的至少一种;其中:
所述第一提取子单元,适于在当提取所选取的MOSFET阈值电压偏移△V的模型时,在所选取的MOSFET栅极施加所述调节电压,且所述调节电压为所选取的MOSFET栅极的工作电压与△V的差再与Vt’求和,△V>0,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型;
所述第二提取子单元,适于当提取所选取的MOSFET阈值电压偏移-△V的模型时,在所选取的MOSFET栅极施加所述调节电压,且所述调节电压为所选取的MOSFET栅极的工作电压与△V求和再与Vt’求和,△V>0,提取所选取的MOSFET在所述调节电压下对应的阈值电压波动模型。
4.如权利要求3所述的MOSFET阈值电压波动模型的提取装置,其特征在于,所述MOSFET的工作电压,与所提取到的阈值电压波动模型实际应用电路情况以及所述MOSFET的制造工艺相关。
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