[发明专利]一种2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法

权利要求书

1.2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

将2-羟基二苯甲酮衍生物、环氧基硅烷和溶剂加入到反应釜中，50～500r/min搅拌，待反应物完全溶解后，升温，在70～100℃下投入碱催化剂，然后，保温度反应3～8h；反应结束后，降低反应温度至50℃以下，加入去离子水洗数次，减压蒸馏出溶剂，即得到2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷。

2.如权利要求1所述的2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法，其特征在于：所述的2-羟基二苯甲酮衍生物的化学结构为如下之一：

(2,4-二羟基二苯甲酮)、

(2,2’,4-三羟基二苯甲酮)、

(2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮)、

(R为-C_nH_2n+1(n＝1～18)，-OC_nH_2n+1(n＝1～18)，-OH)、

(R为-C_nH_2n+1(n＝1～18)，-OC_nH_2n+1(n＝1～18)，-OH)、

(R为-C_nH_2n+1(n＝1～18)，-OC_nH_2n+1(n＝1～18))

(R为-C_nH_2n+1(n＝1～18)，-OC_nH_2n+1(n＝1～18)，-OH)、

(R为-C_nH_2n+1(n＝1～18)，-OC_nH_2n+1(n＝1～18)，-OH)。

3.如权利要求1所述的2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法，其特征在于：环氧基硅烷的化学结构为：其中R₁、R₂、R₃可分别为-OCH₃、-OCH₂CH₃、-CH₃，但不同时为-CH₃；或者为其中R₁、R₂、R₃可分别为-OCH₃、-OCH₂CH₃、-CH₃，但不同时为-CH₃。

4.如权利要求1所述的2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法，其特征在于：2-羟基二苯甲酮衍生物与环氧基硅烷的物质的摩尔量之比为：n(2-羟基二苯甲酮衍生物)：n(环氧基硅烷)＝0.8：1.0～1.0：0.8。

5.如权利要求1所述的2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法，其特征在于：溶剂为苯、甲苯、邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯、混苯、丙酮、乙酸乙酯、异丙醇、乙醇、丁酮、四氢呋喃、己烷、环己烷、乙二醇二甲醚中的一种或几种的混合物，使用量为2-羟基二苯甲酮衍生物和环氧基硅烷质量之和的30wt％～300wt％。

6.如权利要求1所述的2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法，其特征在于：催化剂为氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化锂、四甲基氢氧化铵、甲醇钠、乙醇钠、乙醇钾、丁基锂、二异丙基氨锂中的一种；催化剂的添加量为2-羟基二苯甲酮衍生物和环氧基团硅烷衍生物质量之和的0.05wt％～0.5wt％。

7.如权利要求1所述的2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法，其特征在于：去离子水的加入量为2-羟基二苯甲酮衍生物、环氧基硅烷和溶剂质量之和的30wt％～200wt％，水洗次数为1～6次。

8.如权利要求1所述的2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法，其特征在于：减压蒸馏的真空度为0.001～0.1MPa，温度为50℃～150℃。