[发明专利]荧光剂装置及其制造方法

权利要求书

1.一种荧光剂装置，适用于一光源系统，该光源系统发出一第一波段光，该荧光剂装置包括：

一基板；以及

一第一荧光层，包括：

一第一荧光剂，形成于该基板，以转换该第一波段光为一第二波段光，其中该第二波段光包括一第一色光及一第二色光；以及

一第二荧光剂，分布于该第一荧光剂之间，以转换该第一波段光为该第二色光，以增加该第二色光的出光强度，

该荧光剂装置还包括：

一第二荧光层，其中该基板为一反射式基板，该第二荧光层是设置于该第一荧光层，且该第二荧光层包括该第一荧光剂，以转换该第一波段光为该第二波段光以及降低该第一波段光的能量。

2.如权利要求1所述的荧光剂装置，其中自该第二荧光层输入至该第一荧光层的该第一波段光的残余能量少于40瓦特。

3.如权利要求1所述的荧光剂装置，其中每一该第一荧光层及该第二荧光层的厚度大于或等于50微米，并小于或等于200微米。

4.如权利要求1所述的荧光剂装置，其中该第二荧光剂的重量百分比相较于该第一荧光剂小于85％。

5.如权利要求1所述的荧光剂装置，还包括一反射层，其中该反射层是设置于该基板及该第一荧光层之间，以反射该第二波段光。

6.如权利要求1所述的荧光剂装置，还包括一第二荧光层，其中该基板为一穿透式基板，该第二荧光层是设置于该第一荧光层及该穿透式基板之间，且该第二荧光层包括该第一荧光剂，以转换该第一波段光为该第二波段光以及降低该第一波段光的能量。

7.如权利要求6所述的荧光剂装置，其中输入至该第一荧光层的该第一波段光的残余能量少于40瓦特。

8.如权利要求6所述的荧光剂装置，其中每一该第一荧光层及该第二荧光层的厚度大于或等于50微米，并小于或等于200微米。

9.如权利要求6所述的荧光剂装置，该第二荧光剂的重量百分比相较于该第一荧光剂小于85％。

10.如权利要求6所述的荧光剂装置，还包括一反射层，其中该反射层是设置于该基板及该第二荧光层之间，以反射该第二波段光。

11.一种荧光剂装置，适用于一光源系统，该光源系统沿一光路径发出一第一波段光，该荧光剂装置包括：

一基板，设置于该光路径；以及

一第一荧光层，形成于该基板的一侧；以及

一第二荧光层，于该光路径上形成于该第一荧光层之后；

其中该第一荧光层包括一第一荧光剂及x重量百分浓度的第二荧光剂，且该第二荧光层包括该第一荧光剂及y重量百分浓度的该第二荧光剂，其中y大于x，该第一荧光剂是将该第一波段光转换为一第二波段光，该第二波段光包括一第一色光及一第二色光，且该第二荧光剂是将该第一波段光转换为该第二色光，以增加该第二色光的出光强度。

12.如权利要求11所述的荧光剂装置，其中x大于0，且y小于85。

13.如权利要求11所述的荧光剂装置，其中每一该第一荧光层及该第二荧光层的厚度大于或等于10微米，并小于或等于500微米。