[发明专利]多工作台或多腔体检测系统有效
申请号: | 201610082232.5 | 申请日: | 2016-02-05 |
公开(公告)号: | CN105702597B | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 马卫民;孙伟强 | 申请(专利权)人: | 东方晶源微电子科技(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工作台 体检 系统 | ||
1.一种电子束检测系统,包括:
控制器;
第一检测站,定位成接收样品以便在其中进行第一类型检测;和
至少两个第二检测站,配置成执行第二类型检测,其中所述控制器被引起执行控制模块,所述控制模块配置成当样品完成第一类型检测时从至少两个第二检测站中确定一个第二检测站,使得第一检测站和第二检测站之间的时间间断最短并且检测精度被逐步提高,
其中检测系统包括总的N个检测站,所述总的N个检测站包括第一检测站和至少两个第二检测站,在检测系统中同时处理最大数量N个样品。
2.如权利要求1所述的电子束检测系统,其中控制模块配置成接收来自第一检测站的在样品上的第一类型检测结果,并且基于该结果确定一个第二检测站。
3.如权利要求2所述的电子束检测系统,其中控制模块配置成当看起来不需要进一步检测的时候引起样品被推离进一步的检测。
4.如权利要求1所述的电子束检测系统,其中样品是晶片或掩模。
5.如权利要求1所述的电子束检测系统,其中第一检测站和至少两个第二检测站的至少一个是配备多镜筒的电子束检测模块。
6.如权利要求5所述的电子束检测系统,其中多个镜筒被分成具有不同功能的多组,具有不同功能的多个镜筒以控制器控制的时间次级工作。
7.如权利要求5所述的电子束检测系统,其中多个镜筒被设置不同的权重值,具有较高权重值的多个镜筒主要用于扫描。
8.如权利要求5所述的电子束检测系统,其中具有不同性能的多个镜筒被指派不同的扫描任务或用于样品的不同的关心区域。
9.如权利要求1所述的电子束检测系统,其中第一检测站和至少两个第二检测站的至少一个包括至少一个工作台的腔体,该至少一个工作台配置成用特定像素尺寸执行一种类型的检测。
10.如权利要求1所述的电子束检测系统,还包括具有多个工作台的腔体,所述多个工作台的每一个配置成执行一种类型检测,其中第一检测站和至少两个第二检测站的每一个是工作台的一个。
11.一种电子束检测系统,包括:
控制器;
第一组检测站,配置成执行第一类型检测;
第二组检测站,配置成执行第二类型检测;和
其中第一类型检测使用预定像素尺寸检测,第二类型检测使用小于所述预定像素尺寸检测,控制模块通过控制器执行并且配置成当从第一组检测站中的一个移动被检测物品至第二组检测站时,在不引起任何延迟的情况下确定第二组检测站中没有被占用的一个接收来自第一组检测站的一个的被检测物品,
其中电子束检测系统包括总的N个检测站,所述总的N个检测站包括第一组检测站和第二组检测站,在电子束检测系统中同时处理最大数量N个物品。
12.如权利要求11所述的电子束检测系统,其中所述物品的每一个是晶片或掩模。
13.如权利要求11所述的电子束检测系统,其中第一组检测站和第二组检测站的至少一个是基于使用多镜筒的电子束检测工具。
14.如权利要求13所述的电子束检测系统,其中多个镜筒被分成具有不同功能的多组,具有不同功能的多个镜筒以控制器控制的时间次级工作。
15.如权利要求13所述的电子束检测系统,其中多个镜筒被设置不同权重值,具有较高权重值的多个镜筒主要用于扫描。
16.如权利要求13所述的电子束检测系统,其中具有不同性能的多个镜筒被指派不同的扫描任务或用于样品的不同的关心区域。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造