[发明专利]套刻键标、形成套刻键标的方法和测量套刻精度的方法

说明书

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，具体而言涉及一种套刻键标、形成套刻键标的方法和测量套刻精度的方法。

背景技术

光刻（photolithography）是通过对准、曝光和显影等步骤将掩模上的图形转移到基板上的工艺。在多个层的情况下，确保不同层的图形彼此对准非常重要。套刻（overlay）偏差是指例如由于掩模未对准而引起的不同层的图形之间的位置偏差。

图1A和1B是现有技术中测量不同层之间的套刻精度所使用的套刻键标的平面图。如图1A所示，在第一层中形成作为矩形框的多个标记201（作为示例，仅示出了三个套刻标记201₁、201₂和201₃）。然后，如图1B所示，在第一层上方形成后续层时，依次在对应的层中形成被示出为黑色方块的标记202₁、202₂和202₃。具体地，在第二层中形成标记202₁，在第三层中形成标记202₂，并且在第四层中形成标记202₃。标记202₁、202₂和202₃分别位于矩形框201₁、201₂和201₃的内部。在测量套刻精度时，可以在预先建立的坐标系中确定各个黑色方块的中心点坐标和各个矩形框的中心点坐标。通过计算一个黑色方块的中心点坐标与对应的矩形框的中心点坐标之间的差值，可以测量该黑色方块所对应的层与第一层之间的套刻精度。

然而，这样的现有技术套刻键标的一个问题在于：1）多个矩形框占用的面积较大，浪费了基板的空间；并且2）不能直接测量除第一层之外的任意两层之间的套刻精度。

因此，需要一种改进的套刻键标、形成套刻键标的方法和测量套刻精度的方法。

发明内容

有利的是提供一种套刻键标，其可以缓解或减轻套刻键标对于较大基板面积的需求。进一步地，所述套刻键标可以用于测量不同层（无论是最低层与较高层，还是两个不同的较高层）之间的套刻精度。同样有利的是提供一种形成套刻键标的方法和测量套刻精度的方法。

根据本发明的第一方面，提供了一种套刻键标，包括：至少两个套刻标记，每个所述套刻标记具有彼此中心对称的第一子标记和第二子标记，第一子标记和第二子标记中的每一个包括两个相互垂直且具有公共端的条状图形，其中，所述套刻标记中至少有两个位于不同层。

在一个实现方式中，所述套刻标记的第一子标记依次排列以形成第一阶梯式图形，并且所述套刻标记的第二子标记依次排列以形成第二阶梯式图形。

在一个实现方式中，所述第一阶梯式图形与所述第二阶梯式图形彼此不重叠。

在一个实现方式中，所述至少两个套刻标记中的一个被布置为使得其第一子标记和第二子标记在它们的对称中心处相连接。

在一个实现方式中，所述至少两个套刻标记的第一子标记在远离所述对称中心的第一方向上依次排列，并且所述至少两个套刻标记的第二子标记在与所述第一方向相反的方向上依次排列。

在一个实现方式中，所述两个条状图形具有相同的长度。

根据本发明的另一方面，提供了显示基板，包括如上所述的套刻键标。该套刻键标可以位于显示基板的非显示区。还提供了一种显示面板，包括如上所述的显示基板。

根据本发明的另一方面，提供了一种形成套刻键标的方法，包括：形成至少两个套刻标记，每个所述套刻标记具有彼此中心对称的第一子标记和第二子标记，第一子标记和第二子标记中的每一个包括两个相互垂直且具有公共端的条状图形，其中，所述套刻标记中至少有两个位于不同层。

在一个实现方式中，所述套刻标记的第一子标记依次排列以形成第一阶梯式图形，并且所述套刻标记的第二子标记依次排列以形成第二阶梯式图形。

在一个实现方式中，所述第一阶梯式图形与所述第二阶梯式图形彼此不重叠。

在一个实现方式中，所述至少两个套刻标记中的一个被布置为使得其第一子标记和第二子标记在它们的对称中心处相连接。

在一个实现方式中，所述至少两个套刻标记的第一子标记在远离所述对称中心的第一方向上依次排列，并且所述至少两个套刻标记的第二子标记在与所述第一方向相反的方向上依次排列。

在一个实现方式中，所述两个条状图形具有相同的长度。