[发明专利]一种曝光方法、曝光装置及彩膜基板

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤指一种曝光方法、曝光装置及彩膜基板。

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器的彩色滤光片(Color Filter)制作工艺中，制作黑矩阵(Black Matrix，简称BM)是第一道工艺。

目前，在制作黑矩阵的过程中，每次曝光前，曝光机的机台需要根据程序设定，一般采用图1示出的掩膜版(曝光时用的模板)，通过曝光方法测长系统来精确定位指定的曝光位置(x，y，θ)，如图2所示，实现每个掩膜版与指定的曝光位置的对位，这样的对位方式，曝光节拍较长，对位精度较低。

因此，如何提高曝光节拍，并提高对位精度，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种曝光方法、曝光装置及彩膜基板，可以提高曝光节拍，并提高对位精度。

因此，本发明实施例提供了一种曝光方法，包括：

在掩膜版的第一侧的两个顶角处分别设置一个第一对位标记，以及在所述掩膜版的与所述第一侧相对的第二侧的两个顶角处分别设置一个第二对位标记；

利用所述第一对位标记和第二对位标记在位于衬底基板上方的黑矩阵层上分别形成透过孔的图形，并对所述黑矩阵层进行曝光；

将所述衬底基板以所述第二侧指向第一侧的方向进行移动，控制上一次由所述第二对位标记形成的两个所述透过孔与所述第一对位标记进行对位曝光，并利用所述第二对位标记形成下一次将与所述第一对位标记进行对位的透过孔的图形；

重复移动所述衬底基板并进行所述对位曝光，直至在所述黑矩阵层上形成黑矩阵的图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述曝光方法中，利用所述第一对位标记和第二对位标记在位于衬底基板上方的黑矩阵层上分别形成透过孔的图形，具体包括：

通过激光器利用所述第一对位标记和第二对位标记在位于衬底基板上方的黑矩阵层上进行打孔，分别形成与所述第一对位标记对应的透过孔的图形，以及与所述第二对位标记对应的透过孔的图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述曝光方法中，利用所述第二对位标记形成下一次将与所述第一对位标记进行对位的透过孔的图形，具体包括：

通过激光器利用所述第二对位标记在所述黑矩阵层上进行打孔，形成与所述第二对位标记对应的下一次将与所述第一对位标记进行对位的透过孔的图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述曝光方法中，所述掩膜版的第一侧为左侧，第二侧为右侧；或，

所述掩膜版的第一侧为右侧，第二侧为左侧；或，

所述掩膜版的第一侧为上侧，第二侧为下侧；或，

所述掩膜版的第一侧为下侧，第二侧为上侧。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述曝光方法中，所述透过孔的孔口形状为方形结构。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述曝光方法中，所述黑矩阵的材料为树脂光刻胶。

本发明实施例还提供了一种曝光装置，包括：掩膜版放置台，激光器，移动机台；其中，

所述掩膜版放置台用于放置将对设置在衬底基板上方的黑矩阵层进行曝光时使用的掩膜板；所述掩膜版的第一侧的两个顶角处分别具有一个第一对位标记，以及与所述第一侧相对的第二侧的两个顶角处分别具有一个第二对位标记；

所述激光器用于利用所述第一对位标记和第二对位标记在所述黑矩阵层上进行打孔，分别形成与所述第一对位标记对应的透过孔的图形，以及与所述第二对位标记对应的透过孔的图形；

所述移动机台用于将所述衬底基板以所述第二侧指向第一侧的方向进行移动，控制上一次由所述第二对位标记形成的两个所述曝光方法透过孔与所述第一对位标记进行对位曝光。

本发明实施例还提供了一种彩膜基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵；其中，

所述黑矩阵由上述曝光方法形成的。

本发明实施例的有益效果包括：