[发明专利]基于石墨烯的薄膜层叠体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610092171.0 申请日: 2016-02-19
公开(公告)号: CN107026246B 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 朴种汉;曹承旻;徐顺爱;申召詺;金泰光;金善永 申请(专利权)人: 韩华航空航天公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩明星;孙昌浩
地址: 韩国庆尚*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 石墨 薄膜 层叠 及其 制造 方法
【说明书】:

发明公开一种基于石墨烯的薄膜层叠体及其制造方法。所公开的基于石墨烯的薄膜层叠体的制造方法包括将步骤(a)至步骤(d)作为一次循环并将所述一次循环以相同方式重复执行至N次循环的步骤,其中,N次循环是60次以下的循环。另外,本发明还公开了包含有所述基于石墨烯的薄膜层叠体的电极和电子元件。

技术领域

本发明涉及一种基于石墨烯的薄膜层叠体的制造方法以及所述基于石墨烯的薄膜层叠体。

背景技术

石墨烯是碳原子之间的间距约为且形成为正六边形结构的2维物质。所述石墨烯具有优良的强度、热导率以及电子迁移率等特性,所以可以应用于透明电极或者基于石墨烯的各种电子元件。

石墨烯通常可以利用机械剥离法、化学沉积法、外延合成法或者化学剥离法等方法而制造。如此制造的石墨烯的面电阻为几千Ω/sq,所以需要减少面电阻以应用于工业。

为了改善面电阻,正在尝试层叠多层石墨烯的方法。但是在这种情况下,工序执行次数增加,从而导致成本或者重复执行时的次品率增加,所以开发方向转变为在单层石墨烯中提高电荷迁移率或者增加电荷密度的方向。

因此,依然需要能够改善电荷迁移率以及面电阻的新结构的石墨烯结构体的制造方法以及所述石墨烯结构体等。

发明内容

根据本发明的一方面,其目的在于提供一种能够改善电荷迁移率以及平均面电阻的基于石墨烯的薄膜层叠体的制造方法。

根据另一方面,本发明的目的在于提供所述基于石墨烯的薄膜层叠体。

根据本发明的一方面,提供一种基于石墨烯的薄膜层叠体的制造方法,包括将如下的步骤(a)至步骤(d)作为一次循环并将所述一次循环以相同方式重复执行至N次循环的步骤,其中N次循环是60次以下的循环:

(a)令转移到常温基板上的石墨烯的表面与非金属前驱气体接触,同时以等离子体进行激活的步骤;

(b)利用惰性气体而对与所述非金属前驱气体接触并得到激活的石墨烯表面进行第一次清洗的步骤;

(c)使得到清洗的石墨烯表面与金属前驱气体接触的步骤;以及

(d)利用惰性气体而对与所述金属前驱气体接触的石墨烯表面进行第二次清洗的步骤。

根据本发明的另一方面,提供一种根据如上所述的基于石墨烯的薄膜层叠体的制造方法制造的基于石墨烯的薄膜层叠体。

根据本发明的基于石墨烯的薄膜层叠体及其制造方法,包括将步骤(a)至步骤(d)作为一次循环并将所述一次循环以相同方式重复执行至N次循环的构成,其中N次循环是60次以下的循环,据此可以改善电荷迁移率(具体为电子迁移率)以及平均面电阻。

附图说明

图1是根据一实施例的基于石墨烯的薄膜层叠体的制造方法的顺序图。

图2是根据图1制造的基于石墨烯的薄膜层叠体的示意图。

图3a以及图3b分别为根据比较例1的基于石墨烯的层叠体以及根据实施例1的基于石墨烯的AZO薄膜层叠体的扫描式电子显微镜(SEM)图像。

图4是关于根据比较参照例1的基于石墨烯的层叠体以及根据参照例1的基于石墨烯的AZO薄膜层叠体的光穿透率测量结果。

图5是关于根据实施例2的基于石墨烯的AZO薄膜层叠体以及根据比较例1~3的基于石墨烯的层叠体或者AZO薄膜层叠体的平均面电阻测量结果。

图6是根据一实施例的有机发光元件的示意图。

图7是根据一实施例的背栅(back-gated)电场效应晶体管(FET)的示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于韩华航空航天公司,未经韩华航空航天公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610092171.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top