[发明专利]一种曝光机及用于曝光机的光学过滤器

权利要求书

1.一种曝光机，包括第一平面镜和蝇眼，其特征在于，还包括位于所述第一平面镜和所述蝇眼之间的光学过滤器，所述光学过滤器用于改变进入所述蝇眼中的光的照度，使得曝光间距越大，照射到待曝光基板上的光的照度越小；所述曝光间距为当掩膜板在重力作用下发生弯曲时，待曝光基板与所述掩膜板之间的距离。

2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述光学过滤器包括若干镜片框架和若干过滤镜片，所述镜片框架用于安装所述过滤镜片，所述过滤镜片用于改变进入所述蝇眼中的光的照度；所述镜片框架的个数与所述蝇眼包括的镜组的个数相同，每一所述镜片框架的位置与一所述镜组对应设置，所述镜片框架的尺寸与所述镜片框架对应的镜组的尺寸相同。

3.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，每一所述镜片框架均安装一所述过滤镜片；或在预设位置处的镜片框架上安装所述过滤镜片。

4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，安装在所述镜片框架上的每一所述过滤镜片上均设置有光衰减涂层，所述光衰减涂层用于改变入射光的透过率。

5.根据权利要求4所述的曝光机，其特征在于，所述镜片框架的四角区域位置处安装的所述过滤镜片上设置的光衰减涂层对光线的衰减程度大于所述镜片框架的中间区域位置处安装的所述过滤镜片上设置的光衰减涂层对光线的衰减程度。

6.根据权利要求5所述的曝光机，其特征在于，安装在所述镜片框架的四角区域位置处的所述过滤镜片上设置的光衰减涂层对光线的衰减程度相同。

7.一种用于曝光机的光学过滤器，其特征在于，所述光学过滤器位于曝光机的第一平面镜和蝇眼之间，该光学过滤器用于改变进入所述蝇眼中的光的照度，使得曝光间距越大，照射到待曝光基板上的光的照度越小；所述曝光间距为当掩膜板在重力作用下发生弯曲时，待曝光基板与所述掩膜板之间的距离。

8.根据权利要求7所述的光学过滤器，其特征在于，所述光学过滤器包括若干用于安装过滤镜片的镜片框架，以及若干用于改变进入所述蝇眼中的光的照度的过滤镜片；所述镜片框架的个数与所述蝇眼包括的镜组的个数相同，每一所述镜片框架的位置与一所述镜组对应设置，所述镜片框架的尺寸与所述镜片框架对应的镜组的尺寸相同。

9.根据权利要求8所述的光学过滤器，其特征在于，每一所述镜片框架均安装一所述过滤镜片；或在预设位置处的镜片框架上安装所述过滤镜片。

10.根据权利要求9所述的光学过滤器，其特征在于，安装在所述镜片框架上的每一所述过滤镜片上均设置有光衰减涂层，所述光衰减涂层用于改变入射光的透过率。