[发明专利]一种曝光机及用于曝光机的光学过滤器有效

专利信息
申请号: 201610095196.6 申请日: 2016-02-19
公开(公告)号: CN105549339B 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 闫春龙;郝明迁;白鑫 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02F1/13
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 用于 光学 过滤器
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种曝光机及用于曝光机的光学过滤器。

背景技术

液晶显示面板(Liquid Crystal Display,LCD)是目前常用的平板显示器,LCD的制程包括膜层的沉积以及膜层的曝光,其中曝光过程在整个LCD制程中起着关键的作用。

现有技术曝光机光路结构图如图1所示,包括光线发射单元10、第一平面镜11、蝇眼12、弧形镜13和第二平面镜14,在曝光过程中,光线发射单元10发出的光经过第一平面镜11、蝇眼12、弧形镜13和第二平面镜14射到掩膜板15上,通过掩膜板15实现对待曝光基板16上的膜层的图案化。

曝光时,首先将掩膜板15通过真空吸附的方式固定在固定结构20上,如图2所示,此时掩膜板15会在其自身的重力作用下发生弯曲,目前主要通过调节固定结构20的平坦度及角度来对掩膜板15的平坦度进行补正,但在实际曝光过程中,仍然存在曝光间距不等的情况,待曝光基板16中心区域对应的曝光间距小,四周区域对应的曝光间距大,曝光间距为掩膜板15和待曝光基板16之间的距离,使得待曝光基板16上的膜层曝光后形成的图案的宽度(CD值)不均匀。

现有技术照射到待曝光基板16上的光的照度模拟结果图如图3所示,图中与横坐标X平行方向上的数值100等表示待曝光基板16在水平方向上的位置坐标,与横坐标X垂直方向上的数值20等表示照射到待曝光基板16的水平方向上的位置的光的照度的大小;与纵坐标Y平行方向上的数值100等表示待曝光基板16在竖直方向上的位置坐标,与纵坐标Y垂直方向上的数值20等表示照射到待曝光基板16的竖直方向上的位置处的光的照度的大小,从图中可以看到,现有技术照射到待曝光基板16的光的照度的大小分布均匀,此时由于待曝光基板16对应的曝光间距中心区域小,四周区域大,会导致待曝光基板上的膜层曝光后形成的图案的CD值不均匀。

待曝光基板上的膜层曝光后形成的图案的CD值的分布图如图4所示,待曝光基板上的膜层以彩膜层为例,区域31中测的彩膜层曝光后形成的图案的CD值为22微米(μm),区域32中测的彩膜层曝光后形成的图案的CD值为23μm,区域33中测的彩膜层曝光后形成的图案的CD值为24μm,区域34中测的彩膜层曝光后形成的图案的CD值为25μm,区域35中测的彩膜层曝光后形成的图案的CD值为26μm;即现有技术对彩膜层曝光后,中心区域形成的图案的CD值较小,四角区域形成的图案的CD值较大。

通过现有技术的曝光机对彩膜层曝光后形成的红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)图案如图5、图6(a)和图6(b)所示,图5表示测得的彩膜层曝光后形成的R、G和B图案的CD值与标准值相同,这种情况下R、G和B图案的边缘搭在黑矩阵上的宽度刚好,曝光结果较理想;但当测得的彩膜层曝光后形成的R、G和B图案的CD值比标准值偏小时,R、G和B至少有一个的图案的边缘搭在黑矩阵上的宽度变小,有空白区域,如图6(a)所示,此时发生漏光的概率增大;当测得的彩膜层曝光后形成的R、G和B图案的CD值比标准值偏大时,R、G和B至少有一个的图案的边缘搭在黑矩阵上的宽度变大,如图6(b)所示,图6(b)示出了形成的G的图案的边缘搭在黑矩阵上的宽度变大,此时发生混色的概率增大。

综上所述,采用现有技术的曝光机曝光,待曝光基板上的膜层曝光后形成的图案的CD值均一性较差,显示面板漏光以及混色发生的概率较大。

发明内容

本发明实施例提供了一种曝光机及用于曝光机的光学过滤器,用以改善待曝光基板上的膜层曝光后形成的图案的CD值均一性差的问题,进而减少漏光及混色发生的概率,提升产品良率。

本发明实施例提供的一种曝光机,包括第一平面镜和蝇眼,其中,还包括位于所述第一平面镜和所述蝇眼之间的光学过滤器,所述光学过滤器用于改变进入所述蝇眼中的光的照度,使得曝光间距越大,照射到待曝光基板上的光的照度越小;所述曝光间距为当掩膜板在重力作用下发生弯曲时,待曝光基板与所述掩膜板之间的距离。

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