[发明专利]曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于具备：

射束产生部，产生带电粒子束；

平台部，搭载样品，并使该样品相对于所述射束产生部相对性地移动；

检测部，对所述平台部的位置进行检测；

预测部，基于所述平台部的检测位置而生成预测所述平台部的驱动量所得的预测驱动量；及

照射控制部，基于所述预测驱动量而进行对所述样品照射所述带电粒子束的照射控制；

所述照射控制部基于所述平台部的移动速度与所述平台部的预测移动速度的差，而控制所述带电粒子束的照射量。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于具备偏向部，该偏向部基于与所述预测驱动量对应的所述平台部的预测位置和所述检测位置的差量而使所述带电粒子束偏向。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：

所述预测部从所述平台部的多个所述检测位置计算出平均移动速度，并基于所述平台部的所述平均移动速度及所述检测部检测出的经过所述平台部的位置之后的经过时间而生成所述预测驱动量。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于：

所述检测部依序检测出所述平台部的位置，且

所述预测部依序计算出所述平台部的所述平均移动速度并对其进行更新。

5.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：

每当所述预测位置达到预先设定的分界值时，所述预测部产生时间帧信号并供给至所述照射控制部，且

所述照射控制部基于从所述预测部接收到的所述时间帧信号之后的经过时间而决定该时间帧内的所述带电粒子束的照射时序。

6.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：

所述偏向部基于使所述平台部的所述预测位置与所述检测位置的差量中未达预先设定的频率的频率成分减少的成分，而使所述带电粒子束偏向。

7.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于：

所述平台部基于检测位置而调节所述样品的移动，该检测位置是基于使对所述平台部的位置进行检测的检测信号中预先设定的频率以上的成分减少的检测信号。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于：

所述照射控制部基于对所述平台部的位置进行检测的检测信号的未达所述预先设定的频率的成分，而以将所述带电粒子束照射至所述样品的方式进行控制。

9.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：

所述偏向部基于所述平台部的所述预测位置与所述检测位置的差量及与预先设定的延迟时间对应的所述样品的移动位置而使所述带电粒子束偏向。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

所述预测部从所述平台部的多个所述检测位置计算出平均移动速度，且

所述照射控制部将所述预测部此次计算出的所述平台部的所述平均移动速度作为所述移动速度，且将前次计算出的所述平台部的平均移动速度作为所述预测移动速度而控制所述带电粒子束的照射量。

11.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

所述照射控制部以达到预先设定的曝光量分布的目标的方式，控制对所述样品照射所述带电粒子束的时间。

12.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于：

所述照射控制部通过根据所决定的照射量来切换是否对所述样品照射所述带电粒子束，而以使所述带电粒子束的曝光量分布达到所述预先设定的曝光量分布的目标的方式进行控制。

13.根据权利要求12所述的曝光装置，其特征在于：

在所述平台部一面使所述样品以固定的移动速度移动一面对所述样品继续所述带电粒子束的照射的情况下，以所述带电粒子束的曝光量分布超出所述预先设定的曝光量分布的目标的方式设定所述平台部的移动速度的初始值。

14.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

还具备切换是否对所述样品照射所述带电粒子束的消隐部。