[发明专利]曝光装置及曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光装置及曝光方法。

背景技术

以往，已知有一种互补光刻法，利用使用电子束等带电粒子束的曝光技术对线宽为数十纳米左右的利用光学曝光技术而形成的单纯的线图案进行加工，由此形成微细的配线图案(例如，参照专利文献1及2)。另外，也已知有一种使用多个带电粒子束的多射束曝光技术(例如，参照专利文献3及4)。

专利文献1：日本专利特开2013-16744号公报

专利文献2：日本专利特开2013-157547号公报

专利文献3：美国专利第7276714号说明书

专利文献4：日本专利特开2013-93566号公报

发明内容

[发明要解决的问题]

然而，在这种方法中，如果使用将多个带电粒子束照射至图案的多射束曝光技术，那么难以利用该多射束对以不同的线宽及不同的间距形成的线图案进行加工。另一方面，也存在仅对相同线宽且相同间距的单纯的线图案进行加工无法应对应制作的半导体装置的图案的情况，从而期待能对以不同的线宽及不同的间距形成的线图案进行加工的技术。另外，虽然较理想为使样品相对于带电粒子束以预先设定的相对速度而移动，但实际上会产生移动误差等，因此该移动误差成为曝光位置及曝光量的误差的因素。

[解决问题的技术手段]

在本发明的第1方式中提供一种曝光装置，具备：射束产生部，产生带电粒子束；平台部，搭载样品，并使该样品相对于射束产生部相对性地移动；检测部，对平台部的位置进行检测；预测部，基于平台部的检测位置，而生成预测平台部的驱动量所得的预测驱动量；及照射控制部，基于预测驱动量而进行向样品照射带电粒子束的照射控制。

在本发明的第2方式中提供一种曝光方法，其是向样品照射带电粒子束的曝光方法，且具备：射束产生阶段，射束产生部产生带电粒子束；移动阶段，搭载有样品的平台部使该样品相对于射束产生部而相对性地移动；检测阶段，对平台部的位置进行检测；预测阶段，基于平台部的检测位置，而生成预测平台部的驱动量所得的预测驱动量；照射控制阶段，基于预测驱动量而进行向样品照射带电粒子束的照射控制；及偏向阶段，基于与预测驱动量对应的平台部的预测位置与检测位置的差量而使带电粒子束偏向。

在本发明的第3方式中提供一种曝光方法，其是向样品照射带电粒子束的曝光方法，且包括：射束产生阶段，射束产生部产生带电粒子束；移动阶段，搭载有样品的平台部使该样品相对于射束产生部而相对性地移动；检测阶段，对平台部的位置进行检测，预测阶段，基于平台部的检测位置而生成预测平台部的驱动量所得的预测驱动量；及照射控制阶段，基于预测驱动量而进行向样品照射带电粒子束的照射控制；照射控制阶段基于平台部的移动速度与平台部的预测移动速度的差而控制带电粒子束的照射量。

此外，上述发明的概要并未列举出本发明的全部特征。另外，这些特征群的子组合也可成为发明。

附图说明

图1表示本实施方式的曝光装置100的第1构成例。

图2表示本实施方式的曝光装置100扫描阵列射束而形成在样品10的表面的一部分上的能够照射区域200的一例。

图3表示本实施方式的曝光装置100的动作流程。

图4表示应该形成在样品10上的切割图案的信息的一例。

图5表示本实施方式的扫描控制部190将阵列射束的照射位置移动至图框的开始点的情况的一例。

图6表示本实施方式的选择部160的一例。

图7表示本实施方式的曝光控制部140向消隐电极64供给的控制信号的时序图的一例。

图8表示形成在样品10的表面的线图案802的一例。

图9表示形成在样品10的表面的配线图案900的一例。

图10表示形成有不同的线宽及不同的线间隔的线图案的样品10的一例。

图11表示使本实施方式的电子束的照射区域502与格栅800对应而配置的例子。

图12表示本实施方式的照射控制部170所生成的调节切割图案的曝光量的控制信号的一例。

图13表示执行图12所示的时序图所示的曝光量控制的选择部160的构成例。

图14表示本实施方式的消隐部60的一例。

图15表示本实施方式的曝光装置100的第2构成例。

图16表示第2构成例中的扫描控制部190及预测部1000的一例。

图17表示本实施方式的曝光装置100的动作流程的一部分的第1例。