[发明专利]一种涂胶装置及具有该涂胶装置的纳米压印设备

说明书

技术领域

本发明涉及纳米加工技术领域，更具体地说，涉及一种涂胶装置。此外，本发明还涉及一种包括上述的涂胶装置的纳米压印设备。

背景技术

纳米压印光刻利用传统机械模具微复型原理，代替包括光学、化学及光化学反应机理的传统投影光刻。其工作原理是通过模具下压，导致光刻胶流动并填充到模具表面的特征结构中，随后增大模具下压载荷，使残留层减薄到后续工艺允许的范围内，停止模具下压并固化光刻胶。

现有技术中，纳米光刻压印光刻技术包括滚动型纳米压印装置和平板对辊型纳米压印装置，二者在使用时，均需要使用纳米压印胶涂布装置将光刻胶涂覆在设备上。常见的涂覆装置上通过辊子在盛有光刻胶的容器中滚动并沾取一定的光刻胶，将光刻胶传递给传递带后，最终由传递带将光刻胶传递到工作区域，在传递带或工作区域部分设置有用于调整光刻胶用量的刮墨刀。然而，现有技术的缺点是刮墨刀的刮取量固定，刮墨刀装配完成后，难以根据实际纳米压印工艺需求调节胶层的厚度。

综上所述，如何提供一种胶层厚度可调节的涂胶装置，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的是提供一种涂胶装置，该涂胶装置的光刻胶刮取量可调节，适用于多种压印情况。本发明的另一目的是提供一种包括上述涂胶装置的纳米压印设备。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种涂胶装置，包括用于沾取光刻胶的取胶辊和用于将所述取胶辊上的光刻胶转移到材料上的转移辊，所述取胶辊和所述转移辊可沿自身轴线转动的平行设置在支撑架上，所述支撑架上还设置有用于调整所述取胶辊和所述转移辊之间接触紧密程度的微调件。

优选的，所述微调件为设置在所述支撑架的通孔中的螺旋微调件，所述螺旋微调件设置在所述转移辊的端部。

优选的，所述支撑架上设置有刮墨刀架支撑架，所述刮墨刀架支撑架通过楔形的垫片与刮墨刀架连接，所述垫片用于调整所述刮墨刀架支撑架与所述刮墨刀架的角度，所述刮墨刀架上设置有刮墨刀。

优选的，所述支撑架通过直线平移台与所述刮墨刀架支撑架连接，所述直线平移台包括上平台和可与所述上平台水平相对移动并固定的下平台，所述下平台与所述支撑架固定，所述上平台与所述刮墨刀架支撑架固定。

优选的，所述上平台和所述下平台中的一者为楔形平台，另一者与所述楔形平台的楔形面贴合设置。

优选的，所述刮墨刀为铝片刮墨刀。

优选的，所述取胶辊和所述转移辊的端部均固定设有传递齿轮，所述取胶辊与所述驱动电机传动连接，所述转移辊的传递齿轮与所述取胶辊的传递齿轮啮合。

优选的，还包括用于分别控制所述取胶辊和所述转移辊转速的控制装置，所述控制装置通过驱动电机分别与所述取胶辊、所述转移辊连接。

一种纳米压印设备，包括纳米压印头和涂胶装置，所述涂胶装置为上述任意一项所述的涂胶装置。

本发明提供的装置中，用于沾取光刻胶的取胶辊和用于转移光刻胶的转移辊可转动的平行设置在支撑架上，且取胶辊和转移辊之间的间距和接触紧密程度可以通过微调件进行调整。当取胶辊转动地将光刻胶传递给传递辊的过程中，取胶辊与传递辊的间距直接影响传递的光刻胶量。通过用微调件控制二者的接触紧密程度，实现对光刻胶传递量的控制，合理控制光刻胶量的同时，节省了材料。

本发明还提供了一种包括上述涂胶装置的纳米压印设备，该设备由于设置了上述涂胶装置，可以实现光刻胶量的可控设置和合理配置。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明所提供涂胶装置的具体实施例的结构示意图；

图2为本发明所提供涂胶装置的具体实施例的右视图；

图3为本发明所提供涂胶装置的具体实施例的正视图；

图4为本发明所提供涂胶装置的具体实施例的另一个角度的结构示意图。

上图1-4中：

1为支撑架、2为取胶辊、3为转移辊、4为材料辊、5为传动齿轮、6为电机支撑架、7为伺服电机、8为胶盒、9为直线平移台、10为刮墨刀架支撑架、11为刮墨刀架、12为微调螺栓。

具体实施方式