[发明专利]一种量子点发光二极管、显示器以及制备方法有效
申请号: | 201610110667.6 | 申请日: | 2016-02-29 |
公开(公告)号: | CN105576145B | 公开(公告)日: | 2018-11-30 |
发明(设计)人: | 陈亚文 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 量子 发光 二级 显示器 以及 制备 方法 | ||
1.一种量子点发光二极管,其特征在于,包括:衬底;阳极,设于衬底上且背向衬底凸起;多个功能层,设于阳极上;阴极,设于多个功能层上;所述多个功能层包括量子点发光层、设于量子点发光层与阴极之间的电子传输层、设于阳极与量子点发光层之间的空穴注入层、设于空穴注入层与量子点发光层之间的空穴传输层,所述多个功能层和所述阴极在对应所述阳极凸起的位置相应凸起;
所述量子点发光层的材料为Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体、III-V族化合物半导体、IV-VI族化合物半导体、II-VI族化合物半导体形成的核壳结构材料、Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体形成的核壳结构材料或Ⅳ-Ⅵ族化合物半导体形成的核壳结构材料;
在阴极与阳极之间施加电压时,所述阳极侧的电场线分布密度大于阴极侧的电场线分布密度。
2.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述衬底为玻璃衬底或柔性衬底。
3.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述阳极为反射金属电极,所述反射金属电极为Al、Ag、Cu、Mo、Au或它们的合金。
4.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述空穴注入层为PEDOT:PSS、CuPc、F4-TCNQ、HATCN、氧化钼、氧化钒、氧化钨、氧化铬、MoS2、WS2、MoSe2、WSe2中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述空穴传输层为NPB、TPD、Poly-TPD、TFB、PVK、CBP、TCTA、mCP或它们的混合物。
6.根据权利要求1所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述电子传输层为ZnO、TiO2、SnO、ZrO2、Ta2O3、AlZnO、ZnSnO和InSnO中的一种或多种。
7.一种显示器,其特征在于,包括TFT基板、设置于TFT基板上的像素界定层以及依次设置在像素界定层内的阳极、多个功能层以及阴极;所述多个功能层从内到外依次包括空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层以及电子传输层;
其中,所述阳极为凸起曲面结构,所述多个功能层以及阴极与阳极具有相应的凸起曲面结构;
在阴极与阳极之间施加电压时,所述阳极侧的电场线分布密度大于阴极侧的电场线分布密度。
8.一种如权利要求1所述的量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
A、首先在衬底上沉积凸起曲面结构的阳极;
B、随后在阳极上蒸镀或者电化学沉积空穴注入层和空穴传输层;
C、接着在空穴传输层上电化学沉积量子点发光层;
D、最后在量子点发光层上蒸镀或电化学沉积电子传输层,然后溅射阴极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择