[发明专利]一种用于大面积放射源均匀性测量的系统与方法

权利要求书

1.一种用于大面积放射源均匀性测量的系统，其特征在于，该系统包括均匀性测量仪、多孔屏蔽体及固定支架，其中均匀性测量仪包括半导体探测器及控制器，对大面积放射源均匀性进行测量时，固定支架、多孔屏蔽体按照从上到下的顺序覆盖于大面积放射源上方；所述多孔屏蔽体上设置有若干个用于放射性测量的通孔，多孔屏蔽体的厚度大于被测放射性核素的射程，外观尺寸不小于待测大面积放射源的活性区面积，材质为不锈钢；半导体探测器的探头为圆形，其大小与多孔屏蔽体上设置的通孔的大小相适应，可以对α或β核素进行自动或手动测量；固定支架位于多孔屏蔽体上方，其中心位置处设置有一个与多孔屏蔽体上设置的通孔相对应的孔道，该孔道的四周设置有支撑挡板，该挡板起到支撑及对周围放射性屏蔽的作用。

2.根据权利要求1所述的一种用于大面积放射源均匀性测量的系统，其特征在于，所述多孔屏蔽体上设置的通孔的半径为1cm。

3.根据权利要求1所述的一种用于大面积放射源均匀性测量的系统，其特征在于，所述多孔屏蔽体上设置的通孔的孔位为米字型。

4.利用权利要求1—3任一项所述的系统对大面积放射源均匀性测量的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

1)根据被测大面积放射源的核素类型，选择半导体探测器的档位为α或β测量档；

2)设定时间，测量该半导体探测器的本底计数率；

3)根据大面积放射源的活性区面积，选择外观尺寸不小于该活性区面积的多孔屏蔽体，将其置于待测放射源上；

4)选择多孔屏蔽体上的某个角上的一个空位为初始测量孔位，将固定支架置于该初始测量孔位上，将固定支架中心位置处的孔道对准该初始测量孔位，再将半导体式探测器置于固定支架的孔道上；

5)根据放射源的强度设置测量时间，将初始测量孔位的活度测量4～6次，记录测量数据；

6)卸下半导体式探测器，将固定支架在多孔屏蔽体上平移，使固定支架中心位置处的孔道对准要测的下一个孔位，再将半导体式探测器置于固定支架上，直至全部孔位测量完毕；

7)计算各孔位下的平均计数率，同时计算总体平均值，并根据公式

计算均匀性。