[发明专利]平整薄膜层喷孔结构制造方法、薄膜层结构及喷墨打印机在审
| 申请号： | 201610120025.4 | 申请日： | 2016-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN105667089A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 李令英;宋佳丽;谢永林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;苏州锐发打印技术有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/16;B41J2/01 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 于翠环 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 平整 薄膜 层喷孔 结构 制造 方法 喷墨打印机 | ||
1.一种平整薄膜层喷孔结构的制造方法，包含如下步骤：
(1)在基底上，采用牺牲材料，并将牺牲材料制成压力腔外形，压力腔下表面与基底上 表面连接；
(2)将薄膜层覆盖在由牺牲材料制成的压力腔外形四周，形成压力腔的墙体和平整顶 部；
(3)在由薄膜层形成的压力腔平整顶部上形成贯穿薄膜层的喷孔；
(4)在基底上形成贯穿基底的进墨通道，所述进墨通道与牺牲层对应、连通；
(5)将牺牲材料去除，形成压力腔。
2.根据权利要求1所述的平整薄膜层喷孔结构的制造方法，其特征在于，步骤(1)所述 的牺牲材料为可湿法释放的无机牺牲材料。
3.根据权利要求2所述的平整薄膜层喷孔结构的制造方法，其特征在于，步骤(1)所述 的压力腔外形通过光刻方式形成。
4.根据权利要求1所述的平整薄膜层喷孔结构的制造方法，其特征在于，步骤(2)中薄 膜层通过旋涂或压膜的方式覆盖在由牺牲材料制成的压力腔外形四周。
5.根据权利要求1所述的平整薄膜层喷孔结构的制造方法，其特征在于，步骤(3)所述 的喷孔通过光刻方式形成。
6.根据权利要求1~5任一所述的平整薄膜层喷孔结构的制造方法，其特征在于，所述的 薄膜层为有机材料。
7.根据权利要求1~5任一所述的平整薄膜层喷孔结构的制造方法，其特征在于，所述的 薄膜层为高分子化合物或氟化物。
8.一种平整薄膜层喷孔结构，其特征在于，所述的平整薄膜层喷孔结构由权利要求1-7 任一所述的方法制造而成。
9.一种喷墨打印机，其特征在于，所述的喷墨打印机包括权利要求8所述的平整喷孔薄 膜层结构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;苏州锐发打印技术有限公司，未经中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;苏州锐发打印技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610120025.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
