[发明专利]一种量子棒结构及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种量子棒结构及其制作方法。

背景技术

量子棒技术是一种新型的显示技术，它兼具有超高色域和偏振特性。目前 该技术的难点是量子棒不能实现均匀的取向，限制了该技术在LCD技术中的 应用。

目前，为了提高量子棒的偏振特性，在制作量子棒结构时，通过氧化的方 式，在衬底基板上形成一膜层，使得该膜层具有网状结构，并在该网状结构的 膜层上形成量子棒膜层，从而定格量子棒排布方向，提高量子棒的偏振特性。 但是该方法的缺点是：工艺复杂，且量子棒排布的方向依然不均一。

因此，如何使量子棒具有特定的排布方向，从而提高量子棒的偏振特性是 量子棒技术发展的重点。

发明内容

本发明提供了一种量子棒结构及其制作方法，用以使量子棒具有特定的排 布方向，从而提高量子棒的偏振特性。

本发明实施例提供的一种量子棒结构依次包括基板、取向膜层和量子棒膜 层，其中，所述取向膜层是具有特定方向的晶格结构的膜层。

在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述量子棒结构中，所述 取向膜层的晶格结构均匀排布，且排布方向一致。

在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述量子棒结构中，所述 取向膜层的材料包括单晶或多晶的无机物；或者，

所述取向膜层的材料包括固定晶格结构的有机物。

在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述量子棒结构中，所述 取向膜层是在外力、降温或腐蚀液腐蚀的条件下，形成的具有特定方向的晶格 结构的膜层。

在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述量子棒结构中，所述 取向膜层的厚度为10-2000nm。

本发明实施例提供了一种本发明提供的量子棒结构的制作方法，该方法包 括：

在基板上形成具有特定方向的晶格结构的取向膜层；

在所述取向膜层上形成量子棒膜层。

在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述量子棒结构的制作方 法中，在基板上形成具有特定方向的晶格结构的取向膜层，包括：

将所述取向膜层的材料通过镀膜、沉积或涂布的方式在基板上形成一膜 层；

通过腐蚀液腐蚀所述膜层，使所述膜层形成具有特定方向的晶格结构的取 向膜层。

在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述量子棒结构的制作方 法中，所述腐蚀液包括磷酸、盐酸或硝酸。

在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述量子棒结构的制作方 法中，在基板上形成具有特定方向的晶格结构的取向膜层，包括：

将所述取向膜层的材料通过镀膜、沉积或涂布的方式在基板上形成一膜 层；

按照0.5℃/s至2℃/s的速率范围降温所述膜层，使所述膜层形成具有 特定方向的晶格结构的取向膜层。

在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述量子棒结构的制作方 法中，在基板上形成具有特定方向的晶格结构的取向膜层，包括：

将所述取向膜层的材料通过镀膜、沉积或涂布的方式在基板上形成一膜 层；

对所述膜层施加外力，使所述膜层形成具有特定方向的晶格结构的取向膜 层。

在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述量子棒结构的制作方 法中，在所述取向膜层上形成量子棒膜层，包括：

将量子棒材料涂布在所述取向膜层上，形成量子棒膜层。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供的一种量子棒结构及其制作方法，所述量子棒结构依次 包括：基板、取向膜层和量子棒膜层，其中，所述取向膜层是具有特定方向的 晶格结构的膜层。通过将取向膜层设置为具有特定方向的晶格结构的膜层，使 得量子棒形成在所述具有特定方向的取向膜层上，提高了量子棒排布方向的均 一性，进一步提高了量子棒的偏振特性。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种量子棒结构的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种量子棒结构的截面示意图；

图3为本发明实施例提供的第二种量子棒结构的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的第三种量子棒结构的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种钨酸盐在磷酸腐蚀下的晶格机构的排布示 意图；