[发明专利]一种去除高粘度聚合物中挥发分的系统及方法有效
申请号: | 201610135706.8 | 申请日: | 2016-03-10 |
公开(公告)号: | CN107177017B | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 单岩崑;郭飞;陈美娟 | 申请(专利权)人: | 单岩崑 |
主分类号: | C08F6/10 | 分类号: | C08F6/10 |
代理公司: | 11413 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 刘继富;王春伟 |
地址: | 200120 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 去除 粘度 聚合物 挥发 系统 方法 | ||
1.一种去除高粘度聚合物中挥发分的系统,包括:第一挥发器(50)、第二挥发器(80)和对应每个挥发器的换热器,所述第一挥发器(50)包括:第一分离腔(501)、第一溶液进口(502)、第一溶液出口(503)和第一气体出口(504),所述第二挥发器(80)包括:第二分离腔(801)、第二溶液进口(802)、第二溶液出口(803)和第二气体出口(804),其特征在于:
所述第一挥发器(50)还包括:分布器(505),所述分布器(505)的分离面上开设有多个第一分布孔(506);开设在所述分布器(505)的分离面上的多个第一分布孔(506)中距离所述第一溶液进口(502)近的分布孔的孔径,小于距离所述第一溶液进口(502)远的分布孔的孔径;开设在所述分布器(505)的分离面上的多个第一分布孔(506)中距离所述第一溶液进口(502)近的分布孔的密度,大于距离所述第一溶液进口(502)远的分布孔的密度;
所述分布器(505)位于所述第一分离腔(501)内,与所述第一溶液进口(502)的下端连接,以使从所述第一溶液进口(502)进入的高粘度聚合物溶液与所述分布器(505)的分离面接触;
所述分布器(505)的分离面与第一分离腔(501)的轴线垂直;
所述第二溶液进口(802)位于所述第二挥发器(80)的顶部,并与对应所述第二挥发器(80)的换热器的出口直接连接。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述分布器(505)的分离面为圆形,且所述分布器(505)的外径小于所述第一分离腔(501)的内径。
3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述分布器(505)中的多个第一分布孔(506)平行设置在每个分布排中,所述分布排垂直于所述第一溶液进口(502)的轴线,其中距离所述第一溶液进口(502)近的分布排中的第一分布孔(506)的孔径,小于距离所述第一溶液进口(502)远的分布排中的第一分布孔(506)的孔径;距离所述第一溶液进口(502)近的分布排中的第一分布孔(506)的密度,大于距离所述第一溶液进口(502)远的分布排中的第一分布孔(506)的密度。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的系统,其特征在于,所述第一挥发器(50)还包括:分布筛(507);
所述分布筛(507)位于所述第一分离腔(501)内,固定在所述分布器(505)的下方,所述分布筛(507)上开设有多个第二分布孔(508)。
5.根据权利要求4所述的系统,其特征在于,所述分布筛(507)为圆形,所述分布筛(507)的外径等于所述第一分离腔(501)的内径。
6.一种基于权利要求1-5任一项所述的去除高粘度聚合物中挥发分的系统去除高粘度聚合物中挥发分的方法,其特征在于,所述方法包括:
在对应第一挥发器(50)的换热器中,对高粘度聚合物溶液进行加热,获得包括聚合物熔体和超临界状态挥发分的第一混合物;
使所述第一混合物从第一溶液进口(502)进入第一挥发器(50)的第一分离腔(501)内,并与第一分离腔(501)中的分布器(505)的分离面接触;其中,所述分布器(505)的分离面上开设有多个第一分布孔(506),所述分布器(505)与所述第一溶液进口(502)的下端连接,从第一溶液进口(502)进入第一分离腔(501)内的所述第一混合物的压力大于第一分离腔(501)内的压力;
位于所述分布器(505)的分离面上的第一混合物中的超临界状态挥发分与聚合物熔体进行第一次分离得到第二混合物,其中,第一混合物中的超临界状态挥发分通过第一气体出口(504)排出并被回收;
在与第二挥发器(80)对应的换热器中对所述第二混合物加热,并使加热后的第二混合物进入第二挥发器(80)对第二混合物中的挥发分与聚合物熔体进行第二次分离。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,从第一溶液进口(502)进入第一挥发器(50)内的所述第一混合物的温度在170℃~280℃之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于单岩崑,未经单岩崑许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610135706.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。