[发明专利]曝光机及其操作方法

权利要求书

1.一种曝光机，用于对基板进行曝光，其特征在于，所述曝光机包括：

检测装置，检测基板上的异物；

清洁装置，用于清洁异物，并包括能够运动的清洗头；

控制系统，被配置为：接收检测装置检测到的异物的大小和位置信息；根据异物的大小控制清洗头运动到异物的位置以执行基板的清洁；在清除异物后，控制检测装置对基板进行重新扫描，并控制曝光机对检测合格的基板进行曝光；

所述清洁装置还包括用于对基板进行清洗的清洗装置和用于对清洗后的基板的清洗异物的位置处进行干燥的干燥装置，其中，所述清洗装置包括所述清洗头。

2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述控制系统进一步被配置为：如果检测装置对基板重新扫描的结果显示基板上仍然具有超过预定尺寸的异物，则直接排出所述基板。

3.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述清洗装置还包括用于储存二流体混合液的洗液槽以及连接在清洗头和洗液槽之间的第一管道。

4.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述干燥装置包括储存热气的热气箱、热气喷嘴以及连接在热气箱与热气喷嘴之间的第二管道。

5.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述清洁装置还包括导轨，所述清洗头能够沿着所述导轨运动到与异物对应的位置。

6.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述清洗头包括微型刷。

7.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，所述清洗头包括彼此相邻的洗液喷嘴和旋转微型刷，其中，旋转微型刷在接触基板的同时旋转，以摩擦清除基板上的异物。

8.根据权利要求7所述的曝光机，其特征在于，在旋转微型刷摩擦清除基板上的异物的同时，洗液喷嘴向基板喷射二流体混合液以辅助清洗。

9.一种如权利要求1-8中任意一项所述的曝光机的操作方法，其特征在于，所述操作方法包括：

利用检测装置对基板进行扫描检测，如果检测装置检测到超出预定尺寸的异物，则清洗头运动到异物的位置并对基板进行清洁；

检测装置对基板进行重新扫描，如果检测装置未检测到超出预定尺寸的异物，则曝光机对所述基板进行曝光，

其中，对基板进行清洁的步骤包括：

利用清洗头洗刷基板上的异物；

在洗刷基板上的异物之后，利用干燥装置干燥基板的清洗异物的位置。