[发明专利]曝光机及其操作方法

说明书

技术领域

本发明涉及光刻设备领域，更具体地，涉及一种曝光机及其操作方法。

背景技术

在显示产品(例如，液晶显示器)的生产制造过程中，利用曝光机对基板进行曝光是必不可少的工序，而目前所使用的曝光机多为接近式曝光机，图1示出了接近式曝光机的主要结构的示意图，该接近式曝光机可包括掩膜版1和玻璃基板2。接近式光刻机的掩膜版1与基板2之间存在一个微小的曝光间隙(在图1的示例中，该曝光间隙的数值为150～400μm左右)，然后通过平行光(UV)的照射在该曝光间隙中进行曝光，如此一来，可以有效避免掩膜版与基板直接接触(例如，接触式曝光机)而引起对掩膜版的损伤，使掩膜版能耐久使用。

对于曝光过程而言，曝光间隙的数值越小越好，但曝光间隙越小对玻璃基板的洁净程度的要求也越高。当异物(例如，污染物或微尘)进入到曝光间隙中或者落在玻璃基板上时，如果没有及时发现异物的存在而进行曝光的话，那么基板上的不明异物很有可能在曝光时对掩膜版造成污染甚至划伤(此时，需要更换掩膜版)，或者在曝光后产生质量不合格的产品，这两种情况都将导致生产成本的升高并浪费工时。

发明内容

本发明提供了一种能够检测并清除基板上的异物以对检测合格的基板进行曝光的曝光机。

为此，根据本发明，提供了一种曝光机，用于对基板进行曝光，其特征在于，所述曝光机包括：检测装置，检测基板上的异物；清洁装置，用于清洁异物，并包括能够运动的清洗头；控制系统，被配置为：接收检测装置检测到的异物的大小和位置信息；根据异物的大小控制清洗头运动到异物的位置以执行基板的清洁；在清除异物后，控制检测装置对基板进行重新扫描，并控制曝光机对检测合格的基板进行曝光。

可选地，所述清洁装置还可包括用于对基板进行清洗的清洗装置和用于对清洗后的基板进行干燥的干燥装置，其中，所述清洗装置包括所述清洗头。

可选地，所述控制系统进一步被配置为：如果检测装置对基板重新扫描的结果显示基板上仍然具有超过预定尺寸的异物，则直接排出所述基板。

可选地，所述清洗装置还可包括用于储存二流体混合液的洗液槽以及连接在清洗头和洗液槽之间的第一管道。

可选地，所述干燥装置可包括储存热气的热气箱、热气喷嘴以及连接在热气箱与热气喷嘴之间的第二管道。

可选地，所述清洁装置还可包括导轨，所述清洗头能够沿着所述导轨运动到与异物对应的位置。

可选地，所述清洗头可包括微型刷。

可选地，所述清洗头可包括彼此相邻的洗液喷嘴和旋转微型刷，其中，旋转微型刷在接触基板的同时旋转，以摩擦清除基板上的异物。

可选地，在旋转微型刷摩擦清除基板上的异物的同时，洗液喷嘴向基板喷射二流体混合液以辅助清洗。

根据本发明，还提供了一种上述的曝光机的操作方法，所述操作方法可包括：利用检测装置对基板进行扫描检测，如果检测装置检测到超出预定尺寸的异物，则清洗头运动到异物的位置并对基板进行清洁；检测装置对基板进行重新扫描，如果检测装置未检测到超出预定尺寸的异物，则曝光机对所述基板进行曝光，其中，对基板进行清洁的步骤包括：利用清洗头洗刷基板上的异物；在洗刷基板上的异物之后，利用干燥装置干燥基板。

根据本发明的用于对基板进行曝光的曝光机，不仅能够自动地检测基板上的异物，而且具有清洗基板上的异物以及排出清洗后仍不合格的基板的功能，从而仅对检测合格的基板进行曝光。这有效地避免了浪费大量的稼动时间和不合格的基板重新投入所需的原材料，从而能够提高生产效率并降低成本。

将在接下来的描述中部分阐述本发明总体构思另外的方面和/或优点，还有一部分通过描述将是清楚的，或者可以经过本发明总体构思的实施而得知。

附图说明

图1是现有技术中的接近式曝光机的主要结构的示意图；

图2是示出具有检测装置的接近式曝光机的示意图；

图3是示出根据本发明的实施例的具有检测装置和清洁装置的接近式曝光机的示意图；

图4是示出根据本发明的实施例的接近式曝光机的主要工作过程的流程图。

具体实施方式

现将详细参照本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中，相同的标号始终指的是相同的部件。以下将通过参照附图来说明所述实施例，以便解释本发明。