[发明专利]一种漫反射性高的反射膜及其制备方法

权利要求书

1.一种漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜包括反射膜基材和涂层，所述反射膜基材具有ABA三层共挤结构，所述涂层涂布于反射膜基材的一个表面上；所述涂层在涂布之前先配制成涂布液，所述涂布液由下述组份组成：溶剂44-76％，胶黏剂20-35％，异氰酸酯交联剂1-8％，大粒径粒子1-5％，大粒径粒子的粒径为15-30μm；小粒径粒子2-8％，小粒径粒子的粒径为5-15μm；所述的百分含量为重量百分含量；

所述反射膜基材为ABA三层共挤结构；所述反射膜基材的B层由下列组份组成：聚酯69-92％，无机粒子5-15％，所述无机粒子的粒径为2-5μm，有机发泡剂2-8％，抗静电剂1-8％；所述反射膜基材的A层由下列组份组成：聚酯80-95％，二氧化硅粒子5-20％，所述二氧化硅粒子的粒径为2-5μm。

2.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述大粒径粒子选自聚苯乙烯(PS)粒子、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子、聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)粒子、或聚酯(PET)粒子中的一种或至少两种的组合；所述小粒径粒子选自聚苯乙烯(PS)粒子、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子、聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA)粒子、或聚酯(PET)粒子中的一种或至少两种的组合。

3.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜基材中，A层的材料包括PET切片85-90％，SiO₂粒子10-15％。

4.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜基材中，B层的材料包括73-74％的PET切片，12-13％金红石型的TiO₂、BaSO₄或SiO₂，6-7％的聚甲基戊烯或环状烯烃共聚树脂，7-8％的抗静电剂。

5.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述涂布液包括下述组份：44-76％混合溶剂，20-35％丙烯酸酯胶黏剂或水性聚氨酯胶黏剂或环氧树脂或聚醋酸乙烯酯或异氰酸酯胶黏剂，1-8％异氰酸酯，1-5％大粒径粒子，2-8％小粒径粒子。

6.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述涂布液的材料包括下述组份：44-60％混合溶剂，30-35％胶黏剂，1-8％异氰酸酯，2-5％大粒径粒子，4-8％小粒径粒子。

7.根据权利要求1所述的漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述涂布液的材料包括下述组份：59-60％混合溶剂，30％胶黏剂，1-5％异氰酸酯，2-3％大粒径粒子，4-6％小粒径粒子。

8.一种权利要求1所述的漫反射性高的反射膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

(1)将B层的原料按配比混合均匀后加入主挤出机，将A层的原料按配比混合均匀加入辅挤出机，熔融挤出、流延铸片；

(2)将铸片进行纵向拉伸、横向拉伸、热定型，制得所需的反射膜基材；

(3)将涂层所用的混合溶剂、大粒径粒子、小粒径粒子、胶黏剂、异氰酸酯交联剂配制成涂布液，并对反射膜基材表面进行电晕处理，将配好的涂布液涂布于反射膜基材的电晕面上；

(4)将步骤(3)所得的涂布后的基材干燥后收卷；

(5)将步骤(4)所得的卷膜送入烘房熟化24-48小时，熟化温度为25-60℃，得到漫反射性高的反射膜。

9.一种背光装置，其特征在于，所述背光装置包括光源、扩散板、反射膜、扩散膜、增亮膜和边框，所述反射膜为权利要求1所述的漫反射性高的反射膜。