[发明专利]一种应用于集成电路的静电放电ESD保护电路有效

专利信息
申请号: 201610154495.2 申请日: 2016-03-17
公开(公告)号: CN107204326B 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 安建宏 申请(专利权)人: 电信科学技术研究院
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 刘醒晗
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 应用于 集成电路 静电 放电 esd 保护 电路
【说明书】:

发明公开了一种应用于集成电路的静电放电ESD保护电路。本发明公开的静电放电ESD保护电路包括:主ESD保护电路、电阻和从ESD保护电路;其中,主ESD保护电路中至少包括一个高压N沟道MOS管,该高压N沟道MOS管的栅极、源极和体端连接到地,该高压N沟道MOS管的漏极连接集成电路芯片的引脚焊盘PAD;从ESD保护电路中至少包括一个低压N沟道MOS晶体管,该低压N沟道MOS管的栅极、源极和体端连接到地,该低压N沟道MOS管的漏极通过所述电阻连接到高压N沟道MOS管的漏极,并连接到集成电路芯片内部被保护的电路。本发明能够实现一种漏电电流较小的ESD保护电路,降低系统功耗,更好地满足低功耗系统的应用要求。

技术领域

本发明涉及电子电路领域,尤其涉及一种应用于集成电路的静电放电ESD保护电路。

背景技术

ESD(Electrostatic Discharge,静电放电)是当今集成电路中最重要的可靠性问题之一。ESD现象主要能对电子器件造成以下的损坏:在半导体器件中由于介质击穿而导致氧化物薄膜破裂;由于EOS(Electrical Overstress,电气过应力)引起过热导致金属导线熔化;由于寄生的PNPN结构而导致CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor,互补金属氧化物半导体)器件闭锁;使元器件结构中产生潜藏的缺陷,它们并不立即失效,但会引起断续的故障以及长期可靠性问题,这种损伤非常微弱,不易发现,即潜在损伤.集成电路工业由ESD导致的损失是一个非常严重的问题.ESD造成的失效机理主要热击穿和电击穿。

ESD保护电路的作用是:当ESD脉冲出现后,能提供一条低阻抗的放电通路,并能够将电压钳位在一定水平。该通路对ESD脉冲的开启速度快于内部电路,对正常工作影响较小,包括较小漏电流、寄生、栓锁等。ESD保护电路在集成电路设计中一般设计在芯片引脚焊盘PAD旁,用以保护芯片的内部电路。通常用一个或多个器件构成ESD保护电路,用来构成ESD保护电路的器件有很多种,MOS管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-EffectTransistor,金属氧化物半导体场效应管)就是其中一种,包括NMOS管(N-Channel MOS,N沟道MOS管)和PMOS管(P-Channel MOS,P沟道MOS管)。图1(a)和图1(b)分别示出了NMOS管的结构和电流电压特性,主要利用NMOS管的瞬间崩溃(Snapback)效应来钳位瞬间高压和进行分流的,如图1(a)所示,NMOS管内部有一个横向寄生n-p-n晶体管,即由源极Source、P型衬底p-substrate和漏极Drain形成的,图1(b)中的E(V1,I1)坐标点即为该寄生晶体管开启时的电压电流,在ESD发生时,该寄生n-p-n晶体管触发导通,ESD放出的静电电荷则能够通过该器件泄放到地,此时该器件两端的电压回落至Vhold,使得被保护器件两端电压被限制在Vhold,即钳位电压为Vhold。

一个好的ESD保护电路应该能够可以抵抗多次ESD事件;还应该具有足够快的开启速度以及低的开启电阻,以保证在ESD事件发生时,能够快速将电压钳位,使得相应的被保护电路不受损伤。保护电路还应该具有独立性,在被保护电路工作时,保护电路应该是高阻状态,不影响被保护内部电路的正常工作,尤其在低功耗系统应用中,如低功耗晶振解决方案,对ESD保护电路漏电要求比较高,要求漏电很小。

因此,如何实现一种漏电电流较小的ESD保护电路,从而降低系统功耗,满足低功耗系统的要求,是业界所亟待研究和解决的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种应用于集成电路的静电放电ESD保护电路,用以实现一种漏电电流较小的ESD保护电路,降低系统功耗。

本发明的一个实施例提供的一种应用于集成电路的静电放电ESD保护电路,包括:主ESD保护电路、电阻和从ESD保护电路。

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