[发明专利]一种掩模板的存储方法在审
| 申请号： | 201610163757.1 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN105573051A | 公开（公告）日： | 2016-05-11 |
| 发明（设计）人： | 马兰涛;朱骏;张旭升 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 模板 存储 方法 | ||
1.一种掩模板的存储方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S01：将掩模板放入一存储环境中；
步骤S02：对掩模板表面进行紫外光照射；
步骤S03：对存储环境进行气体置换。
2.根据权利要求1所述的掩模板的存储方法，其特征在于，通过在所 述存储环境设置紫外光光源产生紫外光，对掩模板表面进行紫外光照射。
3.根据权利要求2所述的掩模板的存储方法，其特征在于，通过在所 述存储环境设置紫外光光源产生点状紫外光，对掩模板表面进行紫外光扫描 照射。
4.根据权利要求2所述的掩模板的存储方法，其特征在于，通过在所 述存储环境设置紫外光光源产生发散状紫外光，对掩模板整体表面同时进行 紫外光照射。
5.根据权利要求1-4任意一项所述的掩模板的存储方法，其特征在于， 所述紫外光的波长包含所有的紫外线波长。
6.根据权利要求5所述的掩模板的存储方法，其特征在于，所述紫外 光的波长为193纳米。
7.根据权利要求1-4任意一项所述的掩模板的存储方法，其特征在于， 对掩模板表面进行紫外光持续照射或者周期性照射。
8.根据权利要求1-4任意一项所述的掩模板的存储方法，其特征在于， 所述掩模板包括基板，所述基板具有图形的一侧表面设有保护膜，所述保护 膜带有气孔，紫外光照射方向为从掩模板的保护膜一侧向基板方向照射。
9.根据权利要求1-4任意一项所述的掩模板的存储方法，其特征在于， 通过向存储环境中持续通入置换气体，对存储环境进行气体置换。
10.根据权利要求9所述的掩模板的存储方法，其特征在于，所述置换 气体包括干燥纯化空气或者氮气。
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