[发明专利]彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

提供一衬底基板；

将量子点与PFA材料混合后涂覆在所述衬底基板上，其中，所述量子点包括R量子点、G量子点及B量子点；

采用掩膜对所述量子点与PFA材料进行曝光、显影后形成具有段差结构的量子点/PFA层，去除在所述衬底基板上形成的黑色矩阵；

在所述量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于所述量子点/PFA层上方，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻紧靠在一起，其中，所述R光阻层的厚度与所述G光阻层的厚度相同，所述B光阻层的厚度比所述R光阻层的厚度或所述G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层的步骤之后，所述制作方法还包括：

在所述彩色滤光层上形成偏光层；

在所述偏光层上形成ITO层；

在所述ITO层上形成PI层。

3.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：

衬底基板；

形成在所述衬底基板上的量子点/PFA层，去除在所述衬底基板上形成的黑色矩阵；

形成在所述量子点/PFA层上的彩色滤光层；

其中，所述量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，所述彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于所述量子点/PFA层上方，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻紧靠在一起，其中，所述R光阻层的厚度与所述G光阻层的厚度相同，所述B光阻层的厚度比所述R光阻层的厚度或所述G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

形成在所述彩色滤光层上的偏光层；

形成在所述偏光层上的ITO层；

形成在所述ITO层上的PI层。

5.一种液晶显示装置，其特征在于，所液晶显示装置包括彩膜基板、阵列基板、背光模组及设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶，其中，所述彩膜基板包括：

第一衬底基板；

形成在所述第一衬底基板上的量子点/PFA层，去除在所述衬底基板上形成的黑色矩阵；

形成在所述量子点/PFA层上的彩色滤光层；

所述量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，所述彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于所述量子点/PFA层上方，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻紧靠在一起，其中，所述R光阻层的厚度与所述G光阻层的厚度相同，所述B光阻层的厚度比所述R光阻层的厚度或所述G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。

6.根据权利要求5所述的液晶显示装置，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

形成在所述彩色滤光层上的第一偏光层；

形成在所述第一偏光层上的第一ITO层；

形成在所述第一ITO层上的第一PI层。

7.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其特征在于，所述阵列基板包括：

第二衬底基板；

形成在所述第二衬底基板上的第二偏光层；

形成在所述第二衬底基板远离所述第二偏光层一侧的第二ITO层；形成在所述第二ITO层下的第二PI层；

所述液晶设置于所述第一PI层与所述第二PI层之间。