[发明专利]彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置

说明书

本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置，其中彩膜基板包括量子点/PFA层及彩色滤光层，其制作方法包括：将量子点与PFA材料混合后涂覆在衬底基板上，利用掩膜对量子点与PFA材料进行曝光、显影后形成具有段差结构的量子点/PFA层，并在量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层。因此，本发明通过在彩膜基板上设置一层量子点/PFA层，能够提高液晶显示装置的背光亮度，提高面板的整体色彩饱和度和色域。

技术领域

本发明涉及平板显示技术领域，特别是涉及彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置。

背景技术

TFT-LCD(薄膜晶体管)结构中，彩色滤膜作为重要组成部分，起到将背光转换为RGB(红绿蓝)三色光的作用，目前背光较多数为白色背光，但目前应用广泛的LED背光虽然具有高色域但亮度较低，若想提高亮度，必须增加LED(发光二极管)数目，这样耗能与成本均会较大幅度提高，因此急需寻找其他方法提高背光源的亮度。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置，能够显著提高背光亮度，提高液晶显示面板整体色彩饱和度及色域。

本发明的第一方面提供一种彩膜基板的制作方法，包括：

提供一衬底基板；

将量子点与PFA材料混合后涂覆在衬底基板上，其中，量子点包括R量子点、G量子点及B量子点；

采用掩膜对量子点与PFA材料进行曝光、显影后形成具有段差结构的量子点/PFA层；

在量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层，其中，彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于量子点/PFA层上方。

其中，R光阻层的厚度与G光阻层的厚度相同，B光阻层的厚度比R光阻层的厚度或G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。

其中，在量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层的步骤之后，制作方法还包括：

在彩色滤光层上形成偏光层；

在偏光层上形成ITO层；

在ITO层上形成PI层。

本发明的第二方面提供一种彩膜基板，包括：

衬底基板；

形成在衬底基板上的量子点/PFA层；

形成在量子点/PFA层上的彩色滤光层；

其中，量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于量子点/PFA层上方。

其中，R光阻层的厚度与G光阻层的厚度相同，B光阻层的厚度比R光阻层的厚度或G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。

其中，彩膜基板还包括：

形成在彩色滤光层上的偏光层；

形成在偏光层上的ITO层；

形成在ITO层上的PI层。

本发明的第三方面提供一种液晶显示装置，包括彩膜基板、阵列基板、背光模组及设置于阵列基板与彩膜基板之间的液晶，其中，彩膜基板包括：

第一衬底基板；

形成在第一衬底基板上的量子点/PFA层；

形成在量子点/PFA层上的彩色滤光层；

量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于量子点/PFA层上方。