[发明专利]适于接触式光刻机的分区域曝光装置有效
申请号: | 201610178599.7 | 申请日: | 2016-03-25 |
公开(公告)号: | CN105652605B | 公开(公告)日: | 2018-01-26 |
发明(设计)人: | 马林贤 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙)31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 适于 接触 光刻 区域 曝光 装置 | ||
1.一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置,其特征在于,所述适于接触式光刻机的分区域曝光装置包括:第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板;
所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨;所述第一滑槽导轨包括第一导轨本体及设置于所述第一导轨本体上的第一滑槽;所述第一滑槽位于所述第一滑槽导轨的内侧;所述第一滑槽的长度方向与所述第一导轨本体的长度方向一致,且所述第一滑槽自所述第一导轨本体的一端面延伸至另一端面;
所述第一挡板位于所述第一滑槽导轨之间,且所述第一挡板的两端分别位于两所述第一滑槽导轨上的所述第一滑槽内,并可沿所述第一滑槽的长度方向滑动;
所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨;所述第二滑槽导轨横跨所述第一滑槽导轨组,并固定于所述第一滑槽导轨的表面,且所述第二滑槽导轨与所述第一滑槽导轨相垂直;所述第二滑槽导轨包括第二导轨本体及设置于所述第二导轨本体上的第二滑槽;所述第二滑槽位于所述第二滑槽导轨的内侧;所述第二滑槽的长度方向与所述第二导轨本体的长度方向一致,且所述第二滑槽自所述第二导轨本体的一端面延伸至另一端面;
所述第二挡板位于所述第二滑槽导轨之间,且所述第二挡板的两端分别位于两所述第二滑槽导轨上的所述第二滑槽内,并可沿所述第二滑道的长度方向滑动。
2.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置,其特征在于:所述第一滑槽导轨的端面与所述第二滑槽导轨的外侧相平齐,且所述第二滑槽导轨的端面与所述第一滑槽导轨的外侧相平齐。
3.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置,其特征在于:所述第一滑槽导轨的长度大于所述第二滑槽导轨的长度,且所述第一挡板的长度小于所述第二挡板的长度。
4.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置,其特征在于:所述第一挡板及所述第二挡板的宽度均为2.5mm~150mm。
5.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置,其特征在于:所述第一滑槽导轨及所述第二滑槽导轨均为塑料滑槽导轨。
6.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置,其特征在于:所述第一挡板及所述第二挡板均为不锈钢挡板。
7.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置,其特征在于:所述第一挡板及所述第二挡板横截面的形状为倒梯形。
8.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置,其特征在于:所述第一滑槽导轨及所述第二滑槽导轨的表面不平度为3μm/m;不直度为10~15μm/m。
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