[发明专利]掩模板及其制作方法、使用方法以及包括该掩模板的设备

说明书

根据本发明的一方面，提出了一种掩模板，其包括第一透明基板，在所述第一透明基板上依次形成的：第一透明电极、电致变色层和第二透明电极，所述第一透明电极被配置为接受选择性供电以形成不同形状的通电区域。根据本发明的其它方面，提出了用于制造该掩模板的方法和包括该掩模板的设备，以及该掩模板的使用方法。

技术领域

本发明涉及显示设备的制作领域，尤其涉及掩模板及其制作方法、使用方法以及包括该掩模板的设备。

背景技术

在TFT-LCD制程中，紫外光遮板（UV Mask，也被称为掩模板）主要用于在密封胶的光固化、有效显示区（Active Area）的边缘取向膜去除过程中，对液晶所在区域进行保护性遮挡（液晶是一种有机化合物，在强紫外线照射下会发生裂解，短时间照射会使其电阻率下降，长时间照射会使其颜色变黄，这将影响显示效果）。

在现有技术中，通常根据显示面板的不同尺寸，制作相应尺寸的紫外光遮板。图1中图示了常规的紫外光遮板的结构示意图，其中该紫外光遮板具有被显示为黑色的遮光区和被显示为网格状的透光区。然而，在制作显示屏时，需要针对不同尺寸的显示面板，人工更换不同尺寸的紫外光遮板，这往往需要手动操作，很浪费时间。另外在更换过程中易造成紫外光遮板的破碎，现有技术是用吸附的方式对紫外遮光板进行固定，这会损伤遮光的遮光层，用过一次就报废。因此需要存储大量不同型号的紫外光遮板。在生产线中往往专门建有用于紫外光遮板的储存空间，这使得生产线占用的空间进一步扩大。另外，每张紫外遮光板的制作成本很高，这提高了显示面板的制作成本。

因此，需要一种改进的掩模板来克服上述的问题。

发明内容

根据本发明的一方面，提出了一种掩模板，其包括第一透明基板，以及在所述第一透明基板上依次形成的：第一透明电极、电致变色层和第二透明电极，所述第一透明电极被配置为接受选择性的供电以形成不同形状的通电区域。利用该掩模板，可通过控制施加到第一透明电极以及第二透明电极上的电压来形成相应的遮光图案。该方案使该掩模板具有可重复利用和通用性的优点。

在优选实施例中，所述掩模板还包括在所述第一透明基板和所述第一透明电极之间的用于对第一透明电极进行选择性供电的TFT阵列。该掩模板创新地将TFT阵列与电致变色材料相结合，从而实现对电极的选择性供电

在优选实施例中，所述第一透明电极由纵横交错的电极线的网格构成。利用电极线制作第一透明电极可实现任意网格形状的通电区域，从而达到控制遮光图案的目的。

在优选实施例中，所述第一透明电极由电极块的阵列构成。这可在第一透明电极中实现任意形状的通电区域。

在优选实施例中，所述电致变色层具体包括电致变色材料层、离子导电层和离子存储层，并且在所述电致变色材料层、离子导电层和离子存储层的边缘处封装有密封胶。该密封胶可更好地为保护各个层，以提高该掩模板的寿命。

在优选实施例中，在所述第二透明电极上设置有保护层。该保护层可实现对第二透明电极的保护。

在优选实施例中，所述第二透明电极在第二透明基板上形成，并且通过将得到的所述第二透明基板与所述第一透明基板进行对盒，使所述第二透明电极形成在所述离子存储层和所述第二透明基板之间。利用第二透明基板能够起到对掩模板的更好的保护。

在另一优选实施例中，所述第二透明电极为整体的导电膜层，所述第二透明电极被直接镀到所述离子存储层上。这可减小制造成本，并且能够同样实现本发明的技术效果。

在优选实施例中，所述第二透明电极由纵横交错的电极线的网格或电极块的阵列构成。

在进一步优选实施例中，在所述第二透明电极和所述第二透明基板之间还形成有另一TFT阵列。该TFT阵列可更好地控制施加到第二透明电极上的电压。