[发明专利]一种薄膜晶体管和显示基板及其制作方法、显示器件

权利要求书

1.一种薄膜晶体管的制作方法，包括：

形成源漏金属层；

在所述源漏金属层上形成平坦层，所述平坦层由氮化硅或氧化硅制得；

对所述平坦层和源漏金属层进行构图工艺，形成源电极和漏电极；

对所述平坦层和源漏金属层进行构图工艺，形成源电极和漏电极的步骤包括：

在所述平坦层上形成厚度一致的光刻胶层。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法具体包括：

形成栅电极；

形成覆盖所述栅电极的栅绝缘层；

在所述栅绝缘层上形成有源层；

在所述有源层上源漏金属层；

在所述源漏金属层上形成平坦层；

对所述平坦层和源漏金属层进行构图工艺，形成源电极和漏电极。

3.一种显示基板的制作方法，所述显示基板包括薄膜晶体管，其特征在于，所述制作方法包括：

采用权利要求1-2任一项所述的制作方法形成薄膜晶体管。

4.一种薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括有源层、源电极和漏电极，其特征在于，采用权利要求1-2任一项所述的制作方法制得，所述有源层包括位于所述源电极和漏电极之间的第一部分，所述第一部分从靠近源电极的一侧到靠近漏电极一侧的宽度一致。

5.一种显示基板，其特征在于，包括权利要求4所述的薄膜晶体管。

6.一种显示器件，其特征在于，包括权利要求5所述的显示基板。