[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法有效

专利信息
申请号: 201610207300.6 申请日: 2016-03-31
公开(公告)号: CN107287562B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 张文灿 申请(专利权)人: 东莞酷派软件技术有限公司
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 523500 广东省东莞市松山湖高新*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 装置 方法
【说明书】:

发明公开了一种蒸镀装置,包括真空室、转盘架、加热电极、多个工件支架及驱动装置,真空室包括相对的顶壁和底壁,转盘架设置于真空室的底壁且收容于真空室,加热电极设置于转盘架的中央位置,工件支架安装于转盘架上,加热电极包括第一电极、第二电极和第三电极,第一电极和第二电极之间设置有多个第一承载架,第二电极和第三电极之间设置有多个第二承载架,当第一电极及所述第二电极工作时,第三电极不工作,且转盘架沿顺时针方向旋转,当第二电极及第三电极工作时,第一电极不工作,且转盘架沿逆时针方向旋转。所述蒸镀装置可避免工件的表面镀膜不均匀而出现阴阳色的问题。本发明还公开一种蒸镀方法。

技术领域

本发明涉及镀膜领域,尤其涉及一种蒸镀装置及使用该蒸镀装置的蒸镀方法。

背景技术

在电子产品领域通常需要通过镀膜方法在产品表面或某部件表面镀上保护膜层或功能膜层,例如,在手机外壳、触摸屏表面、显示屏表面等镀一层防指纹膜,防止触摸屏或显示屏容易脏污。镀膜有多种方式,其中,由于蒸镀方式具有能在金属、半导体、绝缘体甚至塑料、纸张、织物表面上沉积金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及部分有机聚合物等薄膜,且其适用范围广、纯度高、污染少等优点而备受推荐。蒸镀通常是在真空条件下进行,因而又称为真空镀膜。真空镀膜是将真空室内蒸镀材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体(即工件)的表面上,从而形成一层薄膜的技术。

在现有技术中,蒸镀装置通常包括真空室、挂装待镀膜产品的挂具及一组加热电极,在蒸镀制程中,将蒸镀材料设置于一组加热电极上,将需要镀膜的产品装在所述挂具上,放到真空室内,合上真空室门,然后抽真空,当真空达到一定真空度时加热电极开始工作,蒸镀材料在加热电极的加热下达到熔点时,在逸出功的作用下,蒸镀材料的粒子向四周扩散,沉积到需要镀膜的产品表面。然而,经常有产品表面不同部位之间存在断差,例如,某些手机的边缘采用由厚变薄的过渡方式,尤其是过渡坡度较陡时,厚的部位与薄的部位间存在断差,甚至形成蒸镀材料难以到达的角度,而现有技术中,挂具通常朝同一个方向转动,使得需要蒸镀的产品也是朝一个方向转动,这样的情况下,蒸镀材料的粒子沉积到产品的表面成膜时会不均匀,甚至难以沉积在断差过大的部位,从而使形成的薄膜出现阴阳色,影响产品的外观和/或性能。

然而,如果在蒸镀过程中使挂具旋转一定的时间后反向旋转,期间要经历一个停止转动再重新启动的过程,该过程中转速比正常工作状态下低,而加热电极没来得及冷却又得重新工作,因此,蒸镀材料一直处于逸出(逸出)状态,也容易导致产品的表面所形成的薄膜不均匀。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于,提供一种蒸镀装置及蒸镀方法,可以避免工件的表面镀膜不均匀而出现阴阳色的问题,从而避免由此而影响工件的外观和性能。

为了解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:

一方面,本发明提供一种蒸镀装置,包括真空室、转盘架、加热电极、多个工件支架及驱动装置,所述真空室包括相对的顶壁和底壁,所述转盘架设置于所述真空室的底壁且收容于所述真空室,所述加热电极设置于所述转盘架的中央位置,所述工件支架安装于所述转盘架上,所述加热电极包括第一电极、第二电极和第三电极,所述第一电极和所述第二电极之间设置有多个第一承载架,所述第二电极和所述第三电极之间设置有多个第二承载架,所述第一承载架和所述第二承载架用于承载蒸镀材料,所述驱动装置用于驱动所述转盘架旋转,当所述第一电极及所述第二电极工作时,所述第三电极不工作,且所述转盘架沿顺时针方向旋转,当所述第二电极及所述第三电极工作时,所述第一电极不工作,且所述转盘架沿逆时针方向旋转。

其中,多个所述工件支架可旋转地安装于所述转盘架上,当所述转盘架沿顺时针方向旋转时,所述工件支架绕所述加热电极顺时针公转且逆时针自转,当所述转盘架沿逆时针方向旋转时,所述工件支架绕所述加热电极逆时针公转且顺时针自转。

其中,所述第一电极的极性与所述第二电极的极性相反,所述第一电极的极性与所述第三电极的极性相同。

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