[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的钝化层和取向层，所述钝化层具有贯穿所述钝化层的过孔结构，其特征在于，所述过孔结构包括：

相互贯通的第一部分和第二部分，所述第一部分靠近所述衬底基板，所述第二部分靠近所述取向层，所述第一部分在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第二部分在所述衬底基板上的正投影区域内，所述第二部分被垂直于所述衬底基板的平面所截得的截面形状为倒等腰梯形，所述第一部分被垂直于所述衬底基板的平面所截得的截面形状为长方形，所述第一部分的高度大于所述第二部分的高度；

所述第二部分的圆形开口的直径范围为10um～14um，所述第二部分的高度范围为

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一部分被平行于所述衬底基板的平面所截得的截面形状为多边形或圆形。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二部分被平行于所述衬底基板的平面所截得的截面形状为多边形。

4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二部分被平行于所述衬底基板的平面所截得的截面形状为圆形。

5.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求1至4中任一项所述的阵列基板。

6.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成钝化层，并形成贯穿所述钝化层的由相互贯通的第一部分和第二部分构成的过孔结构，所述第一部分靠近所述衬底基板，所述第二部分远离所述衬底基板，所述第一部分在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第二部分在所述衬底基板上的正投影区域内，所述第二部分被垂直于所述衬底基板的平面所截得的截面形状为倒等腰梯形，所述第一部分被垂直于所述衬底基板的平面所截得的截面形状为长方形，所述第一部分的高度大于所述第二部分的高度，所述第二部分的圆形开口的直径范围为10um～14um，所述第二部分的高度范围为

形成取向层。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，形成所述过孔结构的过程包括：

采用半曝光工艺，通过一次构图工艺同时形成所述第一部分和所述第二部分。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，形成所述过孔结构的过程包括：

通过两次构图工艺，先后形成所述第一部分和所述第二部分。