[发明专利]低介电常数的聚酰亚胺的制造方法及聚酰亚胺膜暨其应用有效
申请号: | 201610226826.9 | 申请日: | 2016-04-13 |
公开(公告)号: | CN107286650B | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 丘建华;林佳慧;吴俊明;黄黎明;黎伯谦 | 申请(专利权)人: | 新扬科技股份有限公司 |
主分类号: | C08L79/08 | 分类号: | C08L79/08;C08L27/18;C08G73/10;C08J5/18;B32B15/08;B32B15/20 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾高*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介电常数 聚酰亚胺 制造 方法 应用 | ||
1.一种聚酰亚胺的制造方法,其特征在于包含:
提供含氟高分子分散液(A)以及多个芳香族二胺(B),其中所述芳香族二胺(B)是溶于第一溶剂(C)中,且所述含氟高分子分散液(A)包含:
含氟高分子(a-1);
第二溶剂(a-2),选自于由醋酸丁酯、乙酸戊酯及乙酸异戊酯所组成的族群且第一溶剂(C)与第二溶剂(a-2)不同;以及
分散剂(a-3),
其中所述第二溶剂(a-2)和所述分散剂(a-3)的重量比为11至65,所述含氟高分子(a-1)的平均粒径为0.1μm至9μm;
混合所述含氟高分子分散液(A)与所述芳香族二胺(B),以形成第一混合物;
加入芳香族四羧酸二酐(D)于所述第一混合物中,以形成聚酰胺酸溶液,其中所述聚酰胺酸溶液的粘度为10,000cps至50,000cps,所述聚酰胺酸溶液的固含量为16wt.%至25wt.%;
将所述聚酰胺酸溶液涂布于铜箔上,使所述聚酰胺酸溶液直接接触铜箔并进行去溶剂步骤;以及
对所述铜箔进行加热步骤,以于所述铜箔上形成聚酰亚胺,
其中以所述聚酰亚胺的使用量为100重量份,所述含氟高分子的使用量为14重量份至25重量份。
2.如权利要求1所述的聚酰亚胺的制造方法,其特征在于其中该含氟高分子分散液是以30Hz至60Hz的一转速搅拌达0.5小时至6小时而形成。
3.如权利要求1所述的聚酰亚胺的制造方法,其中,所述含氟高分子(a-1)是选自于由聚四氟乙烯(PTFE)、全氟烷氧基树脂(PFA)、聚全氟乙丙烯(FEP)、聚三氟氯乙烯(PCTFE)、乙烯-三氟氯乙烯共聚物(ECTFE)、及聚偏氟乙烯(PVDF)所组成的族群。
4.如权利要求1所述的聚酰亚胺的制造方法,其中,所述分散剂(a-3)是高分子型分散剂,其是选自于由含颜料亲和基团的嵌段共聚物分散剂、改性丙烯酸高分子共聚体分散剂、丙烯酸酯共聚体分散剂以及上述的任意组合所组成的族群。
5.如权利要求1所述的聚酰亚胺的制造方法,其中,所述芳香族二胺(B)是选自于由对二苯胺、二氨基二苯醚、二苯胺甲烷、二氨基二苯酮以及双三氟甲基联苯二胺所组成的族群的至少三者。
6.如权利要求1所述的聚酰亚胺的制造方法,其中,所述芳香族四羧酸二酐(D)是选自于联苯四羧酸二酸酐、均苯四羧酸二酐、二苯酮四羧酸二酐或二苯醚四羧酸二酐。
7.如权利要求1所述的聚酰亚胺的制造方法,其中,所述第一溶剂是极性非质子溶剂。
8.一种聚酰亚胺膜,其是直接形成于铜箔上,其中,所述聚酰亚胺膜包含如权利要求1至7中任一项的聚酰亚胺的制造方法所制得的聚酰亚胺,以所述聚酰亚胺为100重量份,所述聚酰亚胺包含小于或等于19.1重量份的含氟高分子,且所述聚酰亚胺膜具有18ppm/℃至30ppm/℃的线性热膨胀系数、5μm至100μm的膜厚、2.4至2.8的介电常数及0.01至0.005的损耗因子。
9.一种覆铜积层板,包含:
铜箔;以及
如权利要求8所述的聚酰亚胺膜,直接设于所述铜箔上,其中以所述聚酰亚胺膜为100重量份,所述聚酰亚胺膜包含小于或等于19.1重量份的含氟高分子,且所述聚酰亚胺膜为单层膜,所述聚酰亚胺膜具有18ppm/℃至30ppm/℃的线性热膨胀系数、5μm至100μm的膜厚、2.4至2.8的介电常数及0.01至0.005的损耗因子。
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