[发明专利]用于对衬底处理系统中的排放气体进行处理的方法和设备

权利要求书

1.一种用于在衬底处理系统的排放导管中对排放气体进行处理的设备，所述设备包括：

等离子体源，联接至处理腔室的排放导管；

反应物源，联接至所述等离子体源的上游的所述排放导管；

气体注入套组，联接至所述排放导管以可控制地将气体输送至所述排放导管，其中，所述气体注入套组包括：压力调节器，用以设定气体输送压力设定点；流动控制装置，用以在所述压力调节器的所述压力设定点下提供已知的气流；和第一压力计，用以监测所述气体的输送压力；和

控制器，联接至来自所述第一压力计的信号以提供反馈回路来控制由所述气体注入套组输送的所述气体的所述压力。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一压力计设置在所述压力调节器与所述流动控制装置之间，以对所述流动控制装置的上游的气体的所述输送压力进行监测。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述气体注入套组还包括：

控制阀，用以选择性地打开和关闭至所述排放导管的气体的流动。

4.根据权利要求1至3任一项所述的设备，其中，所述气体是清洁干燥空气、氮气或氩气之一或多个。

5.根据权利要求1至3任一项所述的设备，所述设备还包括：

第二压力计，联接至所述排放导管以监测所述排放导管内的压力。

6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述控制器被配置以基于由所述第二压力计测量的所述压力来控制所述排放导管内的所述压力。

7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述控制器被进一步配置以通过控制通过所述反应物源提供至所述排放导管的反应物的流率、以及通过所述气体注入套组提供的气体的流率，来控制所述排放导管内的所述压力。

8.根据权利要求6所述的设备，所述设备还包括：

真空泵，具有联接至所述排放导管的可变的泵容量。

9.根据权利要求8所述的设备，其中，所述控制器基于由所述第二压力计测量的所述压力来调整所述真空泵的所述泵容量。

10.根据权利要求1至3任一项所述的设备，其中，所述排放导管包括前级管路，所述前级管路联接至所述处理腔室，并且所述等离子体源联接至所述前级管路。

11.一种用于在衬底处理系统的前级管路中对排放气体进行处理的方法，所述方法包括以下步骤：

使排放气体和反应物气体流动至衬底处理系统的前级管路中；

由所述排放气体与所述反应物气体形成等离子体，以将所述排放气体转化为可减弱的副产物气体；以及

将非反应性气体注入至所述前级管路中，以在所述前级管路中维持期望压力，以对所述排放气体进行转化。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，注入所述非反应性气体的步骤还包括以下至少一个步骤：

注入第一量的所述非反应气体以响应于流动至所述前级管路中的第二量的所述反应物气体；或

监测所述前级管路中的压力水平，并响应于监测的压力水平来调整进入所述前级管路的所述非反应性气体的流率。

13.根据权利要求11至12任一项所述的方法，还包括以下步骤：

使清洁气体流动至所述前级管路中，以移除在转化所述排放气体期间沉积的材料。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述材料沉积在所述前级管路的一个或多个表面上或沉积在与所述前级管路内联设置的等离子体设备的表面上。

15.根据权利要求13所述的方法，其中，使所述清洁气体流动的步骤还包括以下至少一个步骤：

在所述衬底处理系统中实行的期望数量的处理运行之间流入所述清洁气体；或

从联接至所述前级管路的处理腔室将所述清洁气体流动至所述前级管路中。