[发明专利]用于对衬底处理系统中的排放气体进行处理的方法和设备

说明书

本文提供用于在衬底处理系统的前级管路中对排放气体进行处理的方法和设备。在一些实施例中，一种用于在衬底处理系统的前级管路中对排放气体进行处理的设备包括：等离子体源，联接至处理腔室的前级管路；反应物源，联接至等离子体源的上游的前级管路；和前级管路气体注入套组，联接至前级管路以可控制地将气体输送至前级管路，其中，前级管路注入套组包括：压力调节器，用以设定前级管路气体输送压力设定点；和第一压力计，经联接以监测前级管路的上游的气体的输送压力。

本申请是申请日是2010年12月2日、申请号是201080055155.5并且发明名称是“用于对衬底处理系统中的排放气体进行处理的方法和设备”的PCT/US2010/058664进入中国国家阶段的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明的实施例一般地涉及电子装置的制造，更具体地，涉及减弱来自电子装置制造系统的排放物的系统和方法。

背景技术

远程等离子体源(RPS)或内联等离子体源(IPS)已用于全氟碳化物(PFC)及全球温室气体(GWG)的减弱。例如，可在衬底处理系统的真空系统的前级管路中在高真空泵(例如涡轮泵)与预抽泵(例如干真空泵)之间安装RPS或IPS。然而，目前没有用来控制前级管路(以及因而RPS或IPS)的操作压力以最佳化PFC和/或GWG的减弱的方法及设备。因此，本申请发明人提供用于对处理系统中的排放气体进行处理的改进方法和设备。

发明内容

本文提供用于在衬底处理系统的前级管路中对排放气体进行处理的方法与设备。在一些实施例中，可提供方法及设备以控制前级管路压力而控制与改进减弱破坏效率。在一些实施例中，可提供方法及设备以供应间歇式或连续式清洁气流以移除有害的沉积物，该有害的沉积物可累积在联接至前级管路的等离子体减弱装置的表面上。在一些实施例中，清洁气流可与处理同步，以使清洁最优化和衬底产能最大化。

在一些实施例中，提供按照工具处理配方顺序而选择性地启动压力控制或清洁的方法，以增强系统的效率、产量、及正常工作时间。在一些实施例中，还提供符合成本效益地提供对反应物输送速率进行精确且可重复控制的方法。可提供反应物注入与前级管路气体控制的结合，以将等离子体实时地控制在最佳操作范围内(用于PFC或全球温室气体减弱)。

在一些实施例中，用于清洁衬底处理系统的前级管路的设备可包括：等离子体源，联接至处理腔室的处理前级管路；反应物源，联接至等离子体源的上游的处理前级管路；以及前级管路气体注入套组，联接至处理前级管路以可控制地将气体输送至处理前级管路，其中，前级管路注入套组包括：压力调节器，用以设定前级管路气体输送压力设定点；压力计，用以监测前级管路气体输送压力；以及固定孔，用以在压力调节器的压力设定点下提供已知的气流。在一些实施例中，前级管路气体注入套组还可包括开闭(on/off)控制阀，用以选择性地打开或关闭至处理前级管路的前级管路气体的流动。在一些实施例中，前级管路气体注入套组还可包括压力传感器，用以提供与前级管路气体的压力相对应的信号；以及控制器，联接至来自压力传感器的信号以提供反馈回路来控制前级管路气体的压力。

在一些实施例中，用于在衬底处理系统的前级管路中对排放气体进行处理的设备包括：等离子体源，联接至处理腔室的前级管路；反应物源，联接至等离子体源的上游的前级管路；和前级管路气体注入套组，联接至前级管路以可控制地将气体输送至前级管路，其中，前级管路注入套组包括：压力调节器，用以设定前级管路气体输送压力设定点；和第一压力计，经联接以监测前级管路的上游的气体的输送压力。

在一些实施例中，用于在衬底处理系统的前级管路中对排放气体进行处理的方法包括以下步骤：使排放气体和反应物气体流动至衬底处理系统的前级管路中；由排放气体与反应物气体形成等离子体，以将排放气体转化为可减弱的副产物气体；以及将非反应性气体注入至前级管路中，以在前级管路中维持期望压力，以最优化排放气体的转化。下文描述本发明的其他和进一步的实施例。

下文描述本发明的其他和进一步的实施例。

附图说明