[发明专利]一种替加环素的晶型及其制备方法在审
申请号: | 201610260889.6 | 申请日: | 2016-04-25 |
公开(公告)号: | CN107304173A | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
发明(设计)人: | 盛力;范钢;银瑞峰 | 申请(专利权)人: | 浙江医药股份有限公司新昌制药厂 |
主分类号: | C07C237/26 | 分类号: | C07C237/26;C07C231/24 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 312500 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 替加环素 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及晶型药物领域,尤其涉及一种替加环素的晶型及其制备方法。
背景技术
替加环素,英文名为Tigecycline,分子式:C29H39N5O8,化学名称为(4S,4aS,5aR,12aS)-9-(2-(叔丁基氨基)乙酰氨基)-4,7-双(二甲基氨基)-1,4,4a,5,5a,6,11,12a-四羟基-1,11-二氧-2-萘并萘甲酰胺,CAS号:220620-09-7,分子量:585.65,其结构式如式I:
替加环素由美国惠氏公司开发,最早公开在美国专利US5494903和5284963中,是第一个新一代的称作甘氨酰基环素的四环素抗生素药物。用于18岁及18岁以上复杂皮肤和皮肤结构感染或者复杂腹内感染患者的治疗。
目前来看,替加环素制备工艺中大都存在中间体或粗品质量难以控制的不足。替加环素产品中主要的杂质为替加环素的差向异构体,其结构和性质与替加环素非常相似,生产中难以去除,通常需要多次精制产品纯度才能勉强达到99%,但在此基础上继续提高其纯度非常困难,尤其是需要将单一杂质控制在0.1%以下是无法达到的,难以满足注射剂原料的质量要求。并且,多次纯化步骤也导致了收率的降低,每次纯化过程都造成大量产品的损失。同时,现有文献中公开的晶型存在纯度难以提高、工艺繁琐、成本偏高、对环境不友好等劣势,不适宜工业化生产,迫切需要一种高纯度、操作工艺简单、低成本的替加环素晶型。
发明内容
有鉴于此,本发明要解决的技术问题在于提供一种替加环素的晶型及其 制备方法,本发明提供的替加环素晶型纯度高,其制备方法所得产品收率高。
本发明提供的替加环素的晶型,X-射线粉末衍射图在2θ±0.2°位置有衍射峰,所述2θ为8.5°、10.3°和20.0°。
本发明中,2θ为8.5°、10.3°、12.1°、20.0°和24.7°。
本发明中,2θ为8.5°、10.3°、12.1°、12.4°、14.2°、15.7°、16.9°、17.3°、17.9°、18.2°、18.8°、20.0°、20.6°、22.0°、23.2°、23.4°、24.7°、25.0°、26.4°和27.9°。
根据X-射线粉末衍射图,本发明所述的替加环素晶型的X-射线衍射的详细参数如表1,表现为衍射峰位置:2θ值(°),衍射峰相对强度:峰高值(Height%)。
表1本发明提供的替加环素晶型的X射线衍射参数
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