[发明专利]湿式蚀刻装置

权利要求书

1.一种湿式蚀刻装置，其特征在于，包括：

一腔体，包括：

一进气口，用于导入一蚀刻所需气体；以及

一出气口，用于导出该蚀刻所需气体；

若干个蚀刻液喷嘴，设置于该腔体中以对一基板进行蚀刻；以及

一承载平台，包括：

一本体，设置于该基板下方；以及

若干个平台喷嘴，贯穿该本体，一液体透过这些平台喷嘴提供一液体浮力以承载该基板。

2.根据权利要求1所述的湿式蚀刻装置，其特征在于，进一步包括：

一抽风模块，连接至该进气口及该出气口且用于将该腔体内部之蚀刻所需气体从该出气口抽出。

3.根据权利要求1所述的湿式蚀刻装置，其特征在于，进一步包括一定位单元，该定位单元设置于该本体上并用于将该基板限定在一特定范围内。

4.根据权利要求1所述的湿式蚀刻装置，其特征在于，该液体为水或制程所需药液。

5.根据权利要求1所述的湿式蚀刻装置，其特征在于，该本体之表面每平方公分包括一至五个平台喷嘴。

6.根据权利要求1所述的湿式蚀刻装置，其特征在于，各平台喷嘴之一口径为0.5公厘至1.5公厘。

7.根据权利要求1所述的湿式蚀刻装置，其特征在于，这些平台喷嘴与该基板之间的距离为1公厘至6公厘。