[发明专利]镀膜设备的自动取放机构

权利要求书

1.一种镀膜设备的自动取放机构，将一晶圆所包含的多个晶粒，移载到一溅镀机载盘上进行镀膜，其特征在于，该晶粒位于一原始状态，而使该晶粒之间彼此间隔一晶圆间隙，该镀膜设备的自动取放机构包含：

一用以水平调整位置的取晶乘载台；

一乘载该晶圆移动至该取晶乘载台的一运送装置；

一取放该晶粒的晶粒取放头；以及

一连接该晶粒取放头并于该溅镀机载盘与该取晶乘载台之间往复移动的取放位移装置，该晶粒取放头于固定位置抓取该取晶乘载台上的该晶粒并移至该溅镀机载盘摆放为一镀膜摆放状态，且该晶粒彼此间隔一工艺间隙而阵列摆放，其中该工艺间隙大于该晶圆间隙，以利进行晶粒镀膜。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备的自动取放机构，其特征在于，更包含一设置于该溅镀机载盘与该取晶乘载台之间用以暂存该晶粒的缓冲载盘，以及一将该缓冲载盘移至该溅镀机载盘的载盘移载装置，该晶粒取放头优先抓取该晶粒移至该溅镀机载盘，并于该溅镀机载盘满载时，该晶粒取放头为抓取该晶粒暂存于该缓冲载盘。

3.根据权利要求1所述的镀膜设备的自动取放机构，其特征在于，该晶粒取放头挂设一取物摄影机。

4.根据权利要求1所述的镀膜设备的自动取放机构，其特征在于，该工艺间隙大于1微米。

5.根据权利要求1所述的镀膜设备的自动取放机构，其特征在于，该运送装置设置一夹取该晶圆进入该取晶乘载台的夹爪。

6.根据权利要求1所述的镀膜设备的自动取放机构，其特征在于，该取晶乘载台设置于一乘载平面位移装置上，该乘载平面位移装置包含一X方向乘载位移元件与一Y方向乘载位移元件。

7.根据权利要求1所述的镀膜设备的自动取放机构，其特征在于，该晶粒取放头与该取晶乘载台为设置多组。

8.根据权利要求1所述的镀膜设备的自动取放机构，其特征在于，更包含一拍摄该晶粒的轮廓而得知精确位置的定位摄影机，且该定位摄影机位于该晶粒取放头的位移路径上。

9.根据权利要求1所述的镀膜设备的自动取放机构，其特征在于，该取放位移装置包含一X方向取放位移元件与一Y方向取放位移元件。

10.根据权利要求1所述的镀膜设备的自动取放机构，其特征在于，该溅镀机载盘上设置一溅镀治具。