[发明专利]光刻掩膜板及其制作方法、光刻方法

说明书

提供了一种光刻掩膜板及其制作方法以及使用所述光刻掩膜板的光刻方法。光刻掩膜板包括衬底基板和布置在衬底基板的表面上的掩膜图案，以及布置在该表面上的导电连接图案，其中导电连接图案用于将掩膜图案的分离部分电气连接在一起。

技术领域

本发明一般涉及显示领域，并且特别地涉及一种光刻掩膜板、使用光刻掩膜板的光刻方法，以及光刻掩膜板的制作方法。

背景技术

在显示面板的制作过程中，经常会使用到光刻工艺来制作显示面板上的图案层。使用在光刻工艺中的光刻掩膜板在生产、测试和运输过程中，不可避免地会被引入静电电荷。由于光刻掩膜板通常采用绝缘的玻璃等有机材料作为衬底基板，因此不利于静电电荷的释放。当光刻掩膜板上的静电电荷累积到一定程度时，在光刻掩膜板上的掩膜图案的分离部分之间可能会发生静电放电。一旦在光刻过程中发生静电放电，瞬间产生的高电压或高电流会造成显示面板上的半导体层或者金属走线的性能下降或者甚至被破坏，进而严重影响制作得到的显示面板的性能和产品良率。

因此，在本领域中存在对于改进的光刻掩膜板、使用光刻掩膜板的光刻方法，以及光刻掩膜板的制作方法的需要。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种光刻掩膜板、使用光刻掩膜板的光刻方法，以及光刻掩膜板的制作方法，其能够至少部分地缓解或消除以上提到的现有技术中的问题中的一个或多个。

根据本发明的第一方面，提供了一种光刻掩膜板，包括衬底基板和布置在所述衬底基板的表面上的掩膜图案，以及布置在所述表面上的导电连接图案，其中，所述导电连接图案用于将所述掩膜图案的分离部分电气连接在一起。

如本文中所使用的，衬底基板的“表面”是指其上制作掩膜图案和导电连接图案的衬底基板表面，而不必然是指光刻掩膜板的裸露表面。例如，光刻掩膜板还可以包括包封衬底基板和其上的掩膜图案和导电连接图案的封装层，以用于保护掩膜图案和导电连接图案不受破坏。

在本发明中，通过在光刻掩膜板上布置导电连接图案以将掩膜图案的各个分离部分电气连接在一起，可以避免由于静电电荷累积而在掩膜图案的分离部分之间发生静电放电，从而保护显示面板不受静电放电影响，提高显示面板的性能和产率。

在一些实施例中，导电连接图案包括相互交叉的多条导电连接线。导电连接线之间的间距可以选择成小于掩膜图案的分离部分之间的最小间距，从而保证掩膜图案的任何两个分离部分都能够通过导电连接线电气连接在一起。相互交叉的多条导电连接线可以横纵交叉，或者以任何角度相互交叉。

在这些实施例中，提供了一种通用的导电连接图案。该导电连接图案适用于任何掩膜图案，不需要设计人员针对不同的掩膜图案来设计不同的导电连接图案，因而非常简单和高效，大大减轻了设计人员的工作负担。

在一些实施例中，导电连接图案包括与掩膜图案电气连接的透明导电层。透明导电层可以覆盖掩膜图案。可替换地，透明导电层可以夹在掩膜图案与衬底基板之间。

如本文中所使用的，术语“透明”是指对与光刻掩膜板配合使用的光刻机的光源所发射的光是透明的，因而透明导电层对最终通过光刻工艺产生的显示面板上的图案没有影响。由于采用透明导电层来充当导电连接图案，因而光刻掩膜板的设计和制作更加简单和高效。

在一些实施例中，透明导电层由导电氧化物制成。例如，导电氧化物可以包括铟锡氧化物（ITO）、铝掺杂的氧化锌（AZO）、铟掺杂的氧化锌（IZO）或铟掺杂的氧化镉中的一个或多个。氧化铟锡或锡掺杂的氧化铟是目前已知最佳的且最广泛使用的透明导电氧化物，其由于可以沉积为薄膜的简易性而得到广泛的使用。

在一些实施例中，导电连接图案与掩膜图案同层同材料形成。可以在一个图案化工艺过程中同时形成导电连接图案和掩膜图案，因而光刻掩膜板的设计和制作更加简单和高效。