[发明专利]低反射金属结构、显示面板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明关于一种低反射金属结构及其制作方法，尤指一种具有低反射金属结构的 显示面板及其制作方法。

背景技术

液晶显示面板由于具有外型轻薄、耗电量少以及应用范围广等特性，故已成为目 前显示器的主流商品。由于液晶显示面板内的金属结构例如导线会反射外界的光线，造成 用户在使用液晶显示面板时会看到液晶显示面板的内部导线，因此目前常见的作法是在液 晶显示面板内设置黑色矩阵层，以防止导线反射外界光线的情形发生。然而，黑色矩阵层的 设置会造成液晶显示面板的开口率下降，使得显示亮度降低。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种低反射金属结构、显示面板及其制作方法，以减 少金属结构的可视性并提升显示面板的开口率。

为达上述的目的，本发明提供一种制作低反射金属结构的方法。首先，提供第一基 板。然后，于第一基板上形成金属层。接着，于金属层上及/或下形成低反射层，其中低反射 层包括金属氧化物层或金属氮氧化物层。随后，对低反射层与金属层进行图案化工艺，以形 成图案化低反射层以及图案化金属层。

其中，于该金属层上及/或下形成该低反射层的步骤包括进行一反应性溅镀工艺 步骤。

其中，该制作低反射金属结构的方法，另包括：

于该金属层上及/或下形成该低反射层时，同时于该第一基板与该图案化低反射 层之间，或该金属层与该低反射层之间形成一接口层；以及

利用该图案化工艺一并对该接口层进行图案化。

其中，该接口层的材料包括金属氧化物或金属氮氧化物。

其中，于该金属层上形成该低反射层时，该图案化低反射层仅覆盖该图案化金属 层的顶表面而未覆盖该图案化金属层的侧表面。

其中，该图案化低反射层的厚度介于之间。

其中，该图案化金属层具有一迭合结构，包括一底金属层以及一顶金属层位于该 底金属层上。

其中，该底金属层的厚度介于之间，且该顶金属层的厚度介于之间。

其中，该图案化低反射层的反射率介于2％至20％之间。

其中，该金属氧化物层中氧的含量原子百分比介于5％至50％之间。

其中，该金属氧化物层包括一钼氧化物层或一钼钽氧化物层。

其中，该金属氮氧化物层中氧的含量原子百分比介于5％至50％之间，且该金属氮 氧化物层中氮的含量介于1％至10％之间。

其中，该金属氮氧化物层包括一钼氮氧化物层或一钼钽氮氧化物层。

其中，该图案化金属层的侧表面与底表面之间具有一夹角，且该夹角介于10度至 80度之间。

其中，该低反射层为非晶相。

其中，另包括在形成该金属层与该低反射层之前，先于该第一基板上形成一薄膜 层，且该薄膜层为硅薄膜、硅氧化合物薄膜或硅氮化合物薄膜的单层或多层结构。

为达上述的目的，本发明又提供一种制作显示面板的方法。首先，进行上述的制作 低反射金属结构的方法。然后，于第一基板上形成多个像素结构。接着，于第一基板上形成 第二基板。随后，于第一基板与第二基板之间形成显示介质层。

为达上述的目的，本发明另提供一种低反射金属结构，包括第一基板、图案化金属 层以及图案化低反射层。图案化金属层设置于第一基板上。图案化低反射层设置于图案化 金属层上及/或下。

其中，该图案化低反射层设置于该图案化金属层上时，该图案化低反射层仅覆盖 该图案化金属层的顶表面而未覆盖该图案化金属层的侧表面。

其中，该图案化低反射层的厚度介于之间。

其中，该图案化金属层具有一迭合结构，其包括一底金属层以及一顶金属层位于 该底金属层上。

其中，该底金属层的厚度介于之间，且该顶金属层的厚度介于之间。

其中，该图案化低反射层的反射率介于2％至20％之间。

其中，该图案化低反射层包括一金属氧化物层或一金属氮氧化物层。

其中，该金属氧化物层中氧的含量原子百分比介于5％至50％之间。

其中，该金属氧化物层包括一钼氧化物层或一钼钽氧化物层。

其中，该金属氮氧化物层中氧的含量原子百分比介于5％至50％之间，且该金属氮 氧化物层中氮的含量介于1％至10％之间。