[发明专利]一种溶剂混合器有效
申请号: | 201610395471.6 | 申请日: | 2016-06-06 |
公开(公告)号: | CN107456888B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 赵旭良;汪燕 | 申请(专利权)人: | 上海新昇半导体科技有限公司 |
主分类号: | B01F5/00 | 分类号: | B01F5/00;B01F3/08;B01F15/04 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 溶剂 混合器 | ||
本发明提供一种溶剂混合器包括:储液槽;将多种液体导入所述储液槽的多路进液口;位于所述储液槽之下的初级导流圈;位于所述初级导流圈之下的次级锥形圈;其中,所述储液槽的下端设有开口,所述初级导流圈的上端设有进口,所述进口与所述开口对接,所述初级导流圈的下端设有多个锥形孔;所述次级锥形圈的上端与所述初级导流圈对接,所述次级锥形圈下端设有出液口。本发明的剂混合器可实现多种液体的有效、快速混合,装置成本低,操作简单,占用空间小,结合控制模块可实现精确配比和自动控制,有很强的实用性。
技术领域
本发明涉及半导体制造技术,特别是涉及一种溶剂混合器。
背景技术
在半导体制造工艺中,常常需要将大量的不同溶剂配比混合后使用。例如,在外延工艺中,硅片放置于石英腔体的内部进行外延生长,外延的薄膜不仅沉积于硅片表面,同时还会沉积于石英腔体的内壁上,因此需要对石英腔体等部件进行清洗,清洗液就是需要按比例配制和混合的。混合的方式一般为搅拌或自循环。通常清洗时,在清洗槽内提前放置需要清洗的部件,利用外接容器,即预混合槽,预先配比和混合清洗液,然后再将预混合槽中混合好的清洗液导入清洗槽中对部件进行清洗。在预混合槽中通常是用电机带动叶轮方式进行搅拌或利用自循环泵进行不同溶剂的混合。
图1为现有技术中电机带动叶轮方式进行搅拌实现溶剂混合的示意图,其中,多路进液口分别导入多种不同的配比液至预混合槽,通过搅拌电机带动叶轮搅拌预混合液,混合后通过泵送入清洗槽,清洗内部零件。
图2为现有技术中利用自循环泵实现溶剂混合的示意图,其中,多路进液口分别导入多种不同的配比液至预混合槽,通过关闭阀1打开阀2启动泵循环预混合液,混合均匀后,打开阀1关闭阀2将清洗液送入清洗槽,清洗内部零件。
然而,用电机带动叶轮搅拌或利用自循环泵混合等方式,费用都较高,而且当清洗液的需求量较大时,需要大容积的预混合槽,或需要在较小容积的预混合槽内进行多次配比和混合,要么增加成本占用空间大,要么操作繁琐。因此,实有必要改进现有的溶剂混合方式,避免上述问题。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种溶剂混合器,用于解决现有技术中溶剂混合时成本较高,操作繁琐等问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种溶剂混合器,包括:
储液槽;
将多种液体导入所述储液槽的多路进液口;
位于所述储液槽之下的初级导流圈;
位于所述初级导流圈之下的次级锥形圈;
其中,所述储液槽的下端设有开口,所述初级导流圈的上端设有进口,所述进口与所述开口对接,所述初级导流圈的下端设有多个锥形孔;所述次级锥形圈的上端与所述初级导流圈对接,所述次级锥形圈下端设有出液口。
优选地,所述初级导流圈为圆环状,所述进口为一个或多个,集中设置在所述初级导流圈上端的一侧,所述锥形孔为上大下小的锥形,分散设置在所述初级导流圈的下端。
优选地,所述锥形孔的上端向所述初级导流圈中心倾斜,使所述锥形孔的中心线与所述初级导流圈所在平面成小于90度的倾角。
优选地,所述次级锥形圈为上大下小的圆锥形。
优选地,所述多路进液口包括第一进液口和第二进液口;所述第二进液口集中设置于储液槽中部且管口伸入所述储液槽内,所述第一进液口设置于所述第二进液口的周围且管口高于所述第二进液口的管口。
优选地,所述多路进液口均设有流量电磁阀,分别控制所述多路进液口的液体流量。
优选地,所述储液槽下端开口处设有储液槽电磁阀。
优选地,所述储液槽设有液位传感器,检测储液槽中液位。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新昇半导体科技有限公司,未经上海新昇半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610395471.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。