[发明专利]用于擦拭溅射靶材的转盘及擦拭溅射靶材的方法在审

专利信息
申请号: 201610402363.7 申请日: 2016-06-07
公开(公告)号: CN107470198A 公开(公告)日: 2017-12-15
发明(设计)人: 姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;宋召东 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: B08B1/02 分类号: B08B1/02;B23Q11/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 张亚利,吴敏
地址: 315400 浙江省宁波*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 用于 擦拭 溅射 转盘 方法
【权利要求书】:

1.一种用于擦拭溅射靶材的转盘,其特征在于,包括:

相对设置的底盘和托盘,所述底盘的盘面和所述托盘的盘面相对,所述托盘和所述底盘可转动连接,使所述托盘能够在所述底盘上方自转;

所述托盘的顶面为平面;

弹性垫,用于设置在所述托盘的顶面;

第一净化布,用于设置在所述弹性垫的上表面。

2.如权利要求1所述的用于擦拭溅射靶材的转盘,其特征在于,还包括轴承,所述轴承包括同心的内圈和外圈,所述内圈与外圈能够相对转动;

所述轴承设于所述底盘和托盘之间,所述底盘和所述托盘其中之一与所述内圈固定连接,另一与所述外圈固定连接以实现所述可转动连接。

3.如权利要求1所述的用于擦拭溅射靶材的转盘,其特征在于,所述底盘具有凸起,所述托盘具有凹槽,所述凸起能够插入所述凹槽中,使得所述托盘能够以所述凹槽为中心进行旋转;或,

所述底盘具有凹槽,所述托盘具有凸起,所述凸起能够插入所述凹槽中,使得所述托盘能够以所述凸起为中心进行旋转。

4.如权利要求1所述的用于擦拭溅射靶材的转盘,其特征在于,所述托盘为圆盘,所述托盘围绕其圆心进行自转。

5.如权利要求1所述的用于擦拭溅射靶材的转盘,其特征在于,所述托盘的材料为铝合金材料。

6.如权利要求1所述的用于擦拭溅射靶材的转盘,其特征在于,所述弹性垫的顶面和底面均为平面,所述弹性垫的厚度在10mm—15mm之间。

7.如权利要求1所述的用于擦拭溅射靶材的转盘,其特征在于,所述第一净化布的材料为聚酯纤维。

8.一种使用权利要求1至7任一项所述的转盘擦拭溅射靶材的方法,其特征在于,包括:

将所述弹性垫设置在所述托盘的顶面,将所述第一净化布设置在所述弹 性垫的上表面;

将需要擦拭的溅射靶材放置在所述第一净化布上,并使溅射靶材的中心对准所述托盘的自转中心,所述溅射靶材的顶面为需要擦拭的面;

旋转所述托盘带动溅射靶材进行旋转,并用第二净化布与所述溅射靶材的顶面相贴,利用第二净化布与溅射靶材的相对转动擦拭所述溅射靶材的顶面;

控制所述第二净化布,使所述第二净化布在所述溅射靶材的旋转中心位置和边缘位置之间移动。

9.如权利要求8所述的擦拭溅射靶材的方法,其特征在于,所述第二净化布的材料为聚酯纤维。

10.如权利要求8所述的擦拭溅射靶材的方法,其特征在于,旋转所述托盘的角速度在20r/min—40r/min之间。

11.如权利要求8所述的擦拭溅射靶材的方法,其特征在于,所述第二净化布与所述溅射靶材的顶面之间的贴合压力在0.3N—1.0N之间。

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