[发明专利]一种含有铋和卤素的半导体材料及其制备与分析方法有效

专利信息
申请号: 201610407141.4 申请日: 2016-06-12
公开(公告)号: CN106082329B 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: 米启兮;汪瑶 申请(专利权)人: 上海科技大学
主分类号: C01G29/00 分类号: C01G29/00;G01N31/16
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司31001 代理人: 翁若莹,王婧
地址: 201210 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 含有 卤素 半导体材料 及其 制备 分析 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于新材料,涉及一类含有铋和卤素的半导体材料及其制备与分析方法,具体涉及化学式通式为Cs3Bi2BrxI9-x(其中x=1-6.85)的新材料及其制备与分析方法。

背景技术

当前,随着能源危机和环境污染问题日益突出,寻找到一种清洁能源替代传统化石能源已迫在眉睫。氢能由于其热值高、重量轻、无污染、可存储运输等诸多优点,同时氢是地球上最丰富的元素之一,氢能被认为是最有希望替代传统化石能源的清洁能源。传统的氢能获取方式主要是电解水制氢和矿物燃料制氢,电解水制氢会消耗大量的电能,矿物燃料制氢会产生CO2造成二次污染,而光催化分解水制氢利用取之不尽、用之不竭的太阳能分解水产生氢气,反应条件温和,操作简单,无污染,具有巨大的开发前景。

利用太阳能分解水产生氢气的关键在光催化剂的开发,而衡量光催化剂的好坏,通常看以下三点:带隙能及带边位置满足分解水的能量要求;能充分利用太阳能,对可见光响应;性能稳定,能抵抗光腐蚀(Abe,J.Photochem.Photobiol.C,2010,11,179-209)。因此,寻找到一种能带结构合适并且性能稳定的光催化剂,对于光催化分解水制氢的推广应用意义重大。

目前,通式为A3M2X9(A为碱金属离子,M为Bi3+或Sb3+离子,X为卤素离子)的系列化合物主要以研究其结构与相变为主(Chabot,Acta Cryst.B,1978,34,645-648;Yamada,J.Solid State Chem.,1997,134,319-325;Ivanov,Inorg.Mater.,2001,37,623-627)。在2015年,有报道(Lehner,Chem.Mater.,2015,27,7137-7148;Brandt,MRS Commun.,2015,5,265-275;Park,Adv.Mater.,2015,27,6806-6813)研究了Cs3Sb2I9和Cs3Bi2I9在太阳电池方面的应用。然而,在已知的A3M2X9类型化合物中,含Sb3+的材料对水不稳定,Cs3Bi2Br9为亮黄色只吸收可见光中的蓝光,而Cs3Bi2I9在室温下由孤立的Bi2I93-离子组成,不具有类钙钛矿结构。这些现有的材料都不是理想的光解水制氢的催化剂材料。

发明内容

本发明针对现有材料存在的上述问题,本发明的目的是提供一类不含Sb3+、且能吸收大部分可见光谱的类钙钛矿材料及其制备、分析方法。

为了达到上述目的,本发明提供了一种含有铋和卤素的半导体材料,其特征在于,其化学式为Cs3Bi2BrxI9-x,其中,x=1-6.85。

进一步地,所述的含有铋和卤素的半导体材料具有类钙钛矿晶体结构,空间群为P-3m1。

本发明还提供了上述的含有铋和卤素的半导体材料的制备方法,其特征在于,包括:将Cs3Bi2Br9和Cs3Bi2I9按照一定比例混合,加热反应得到Cs3Bi2BrxI9-x;或者,将含有Cs、Bi和I元素的反应物与氢溴酸反应,冷却结晶,得到Cs3Bi2BrxI9-x

优选地,所述的含有Cs、Bi和I元素的反应物为CsBr和BiI3

优选地,所述的含有Cs、Bi和I元素的反应物为CsI和Bi2O3

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海科技大学,未经上海科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610407141.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top