[发明专利]工件曝光方法、曝光设备及其置件机构

说明书

一种工件曝光方法、曝光设备及其置件机构。所述曝光设备包括工作腔室、位于工作腔室外侧的置件区域、设置于工作腔室内的位置对准装置与曝光装置、分别设置于工作腔室与置件区域的两个第一台框、及分别设置于工作腔室与置件区域的两个第二台框。任一个第一台框可移动地与另一个第一台框进行位置交换，并且任一个第二台框可移动地与另一个第二台框进行位置交换。位于工作腔室内的所述第一台框及第二台框能通过位置对准装置，而进行与曝光装置间的对位。藉此，提供一种具备较佳作业效率的曝光设备。

技术领域

本发明涉及一种半导体制造设备，且还涉及一种工件曝光方法、曝光设备及其置件机构。

背景技术

现有的曝光设备是将对位装置与曝光装置安置于不同的区域，例如是将曝光装置设置于工作腔室内，而将对位装置设置于工作腔室外。因此，现有的曝光设备是先通过所述对位装置进行台框及工件的对位作业，而后才将台框及工件移动至工作腔室内，以通过所述曝光装置进行曝光。然而，现有曝光设备的构造及运作方式已无形中降低作业效率。

于是，本发明人认为上述缺陷可改善，潜心研究并配合学理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本发明。

发明内容

本发明实施例在于提供一种工件曝光方法、曝光设备及其置件机构，能有效地改善现有曝光设备所可能产生的问题。

本发明实施例公开一种工件曝光方法，包括：置放待曝光的一第一工件于一第一台框上；移动所述第一台框，接着以一位置对准装置进行所述第一台框与一曝光装置间的对位作业，其后，所述曝光装置对所述第一台框上的待曝光的所述第一工件进行曝光作业；在所述第一台框及待曝光的所述第一工件进行所述对位作业与所述曝光作业的至少其中一个作业过程中，置放待曝光的一第二工件于一第二台框；以及移动所述第二台框，接着以所述位置对准装置进行所述第二台框与所述曝光装置间的对位作业，其后，所述曝光装置对所述第二台框上的待曝光的所述第二工件进行曝光作业；在所述第二台框及待曝光的所述第二工件进行所述对位作业与所述曝光作业的至少其中一个作业过程中，置放待曝光的另一第一工件于另一第一台框上，接着移动交换所述第一台框及所述另一第一台框的位置。

优选地，在所述第一台框进行所述对位作业的过程中，置放待曝光的所述第二工件于所述第二台框；在待曝光的所述第一工件进行所述曝光作业的过程中，移动所述第二台框，以使所述位置对准装置进行所述第二台框与所述曝光装置间的对位作业。

优选地，在所述第二台框进行所述对位作业的过程中，置放待曝光的所述另一第一工件于所述另一第一台框上；在待曝光的所述第二工件进行所述曝光作业的过程中，移动交换所述第一台框及所述另一第一台框的位置，以使所述位置对准装置进行所述另一第一台框与所述曝光装置间的对位作业。

优选地，所述曝光装置包含有单个曝光光源，所述曝光光源沿一直线方向移动，并且所述曝光光源在移动的过程中，先对待曝光的所述第一工件进行所述曝光作业，而后对待曝光的所述第二工件进行所述曝光作业。

优选地，所述位置对准装置所进行的各个所述对位作业以及所述曝光装置所进行的各个所述曝光作业是在同一工作腔室内实施。

优选地，在移动交换所述第一台框及所述另一第一台框的位置之后，以所述位置对准装置进行所述另一第一台框与所述曝光装置间的对位作业，其后，所述曝光装置对所述另一第一台框上的待曝光的所述另一第一工件进行曝光作业；在所述另一第一台框及待曝光的所述另一第一工件进行所述对位作业与所述曝光作业的至少其中一个作业过程中，置放待曝光的另一第二工件于另一第二台框，接着移动交换所述第二台框及所述另一第二台框的位置。

优选地，所述工件曝光方法进一步包括：提供设有所述第一台框、所述另一第一台框、所述第二台框、所述另一第二台框、所述位置对准装置、及所述曝光装置的一曝光设备，并且所述曝光设备能被用来执行所述第一台框、所述另一第一台框、所述第二台框、及所述另一第二台框的移动、所述位置对准装置的对位作业、及所述曝光装置的曝光作业。