[发明专利]腔体泄漏检测方法及其装置

权利要求书

1.一种腔体泄漏检测方法，是检测腔体泄漏的方法，其特征在于，包括：

利用清洗气体执行清洗所述腔体的内部的工程的步骤；

下一个工序开始之前的处理工程期间，注入等离子体反应气体，泵吸去除利用清洗气体的所述腔体的清洗工程后残留于所述腔体内的清洗气体的步骤；

泵吸后下一个工序开始之前的处理工程期间，使注入所述腔体内部的所述等离子体反应气体进行等离子体反应的步骤；以及

泵吸后下一个工序开始之前的处理工程期间，通过获取所述等离子体反应的等离子体频谱后分析以检测所述腔体的泄漏的步骤，

所述等离子体反应气体与所述清洗气体为不同气体，由于完成所述清洗工程后残留于所述腔体内的清洗气体，所述腔体的状态不理想的情况下，将所述等离子体反应气体注入至所述腔体，并向所述腔体外部泵吸所述清洗气体使所述腔体变成理想状态，所述腔体内部成为不存在所述清洗气体的理想状态后，使所述等离子体反应气体进行等离子体反应以检测所述腔体泄漏，

若获取的所述频谱仅包括对于所述等离子体反应气体的频谱，则判断所述腔体不存在泄漏，若还包括对于其他气体的频谱，则判断所述腔体存在泄漏。

2.根据权利要求1所述的腔体泄漏检测方法，其特征在于：

所述其他气体为N₂、O₂。

3.根据权利要求1所述的腔体泄漏检测方法，其特征在于：

获取等离子体频谱的所述步骤在100至1000nm之间的波段以0.1至10nm之间的分辨率获取所述等离子体频谱。

4.一种腔体泄漏检测装置，是检测腔体泄漏的装置，其特征在于，包括：

获取部，其在执行对所述腔体的清洗工程后下一个工序开始之前的处理工序，注入等离子体反应气体，泵吸去除利用清洗气体的所述腔体的清洗工序后残留于所述腔体内的清洗气体后，获取关于为了快速去除所述清洗气体而使用的等离子体反应气体的等离子体反应的等离子体频谱；以及

泄漏检测部，其通过分析所述等离子体频谱检测所述腔体的泄漏，

所述等离子体反应气体与所述清洗气体为不同气体，

由于完成所述清洗工程后残留于所述腔体内的清洗气体，所述腔体的状态不理想的情况下，将所述等离子体反应气体注入至所述腔体，并向所述腔体外部泵吸所述清洗气体使所述腔体变成理想状态，所述腔体内部成为不存在所述清洗气体的理想状态后，使所述等离子体反应气体进行等离子体反应以获取等离子体频谱，

所述泄漏检测部在获取的所述频谱仅包括对于所述等离子体反应气体的频谱时，判断所述腔体不存在泄漏，还包括对于其他气体的频谱时，判断所述腔体存在泄漏。

5.根据权利要求4所述的腔体泄漏检测装置，其特征在于：

所述获取部是能够获取关于所述等离子体反应的等离子体频谱的图像传感器或分光仪，

所述图像传感器或分光仪获取在100至1000nm之间的波段的等离子体频谱。

6.根据权利要求4所述的腔体泄漏检测装置，其特征在于：

所述等离子体反应气体为Ar，所述其他气体为N₂、O₂。

7.根据权利要求4所述的腔体泄漏检测装置，其特征在于，还包括：

警报部，其在所述泄漏检测部检测到泄漏的情况下，以视听觉形式输出警报。