[发明专利]一种薄膜及其修复方法、显示基板及其制作方法有效
申请号: | 201610500519.5 | 申请日: | 2016-06-29 |
公开(公告)号: | CN106098966B | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | 李旭伟;崔富毅;肖昂;陈静静;王利娜;陈帅 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/52;G02F1/13 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 薄膜 及其 修复 方法 显示 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种薄膜及其修复方法、显示基板及其制作方法。
背景技术
在显示器件的制作过程,各显示薄膜的制作质量直接影响最终产品的显示品质。当利用喷嘴通过喷墨打印工艺制备显示薄膜时,会因为颗粒或材料残留等原因造成成膜缺陷。
现有技术中,对于具有凹陷缺陷(图1中的虚线框内)的薄膜1,一般会利用喷嘴进行修复作业,但是缺陷区域的薄膜体积一般小于5pL,而喷嘴的直径为5um,最小喷墨体积在10pL左右,修复后会导致凸起缺陷,如图2中的虚线框内所示,无法达到修复目的,使得成膜均一性较差。如果更换直径小于5um的喷嘴,制作精度不容易实现,而且容易出现堵塞的问题从而频繁导致宕机,影响生产产能。
发明内容
本发明提供一种薄膜及其修复方法、显示基板及其制作方法,用以提供一种薄膜修复方法,保证显示基板上薄膜的均一性。
为解决上述技术问题,本发明实施例中提供一种薄膜的修复方法,所述薄膜设置在一基底上,所述薄膜具有不平整区域,所述不平整区域的薄膜远离所述基底的表面为不平整面,所述修复方法包括:
确定一待修复区域,使所述不平整区域完全落入所述待修复区域内;
去除所述待修复区域内的薄膜;
在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料,形成修复区域,且所述修复区域的薄膜的第一表面与位于所述修复区域外围的周边区域的薄膜的第二表面的高度差在预设范围,所述高度差为所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距离。
本发明实施例中还提供一种显示基板的制作方法,包括形成封装薄膜的步骤,当所述封装薄膜具有不平整区域时,采用如上所述的修复方法对所述封装薄膜进行修复。
本发明实施例中还提供一种薄膜,所述薄膜包括修复区域和位于所述修复区域外围的周边区域,所述修复区域采用如上所述的修复方法制得。
本发明实施例中还提供一种显示基板,包括封装薄膜,所述封装薄膜采用如上所述的薄膜。
本发明的上述技术方案的有益效果如下:
上述技术方案中,当薄膜成膜不均一时,首先确定一待修复区域,使所述不平整区域完全落入所述待修复区域内,然后去除所述待修复区域内的薄膜,最后重新在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料,形成修复区域,且所述修复区域的薄膜的第一表面与位于所述修复区域外围的周边区域的薄膜的第二表面的高度差在预设范围,提高成膜均一性,保证产品的显示品质。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1表示薄膜的表面具有凹陷缺陷的结构示意图;
图2表示采用现有技术中的修复对图1中的凹陷缺陷进行修复后的结构示意图;
图3表示本发明实施例中薄膜的修复方法流程图;
图4-图6表示本发明实施例中对表面具有凹陷缺陷的薄膜的修复过程图;
图7-图9表示本发明实施例中对表面具有凸起缺陷的薄膜的修复过程图;
图10表示本发明实施例中去除待修复区域的薄膜的过程图;
图11表示本发明实施例中在待修复区域填充制作薄膜的材料的过程图;
图12表示本发明实施例中显示基板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
实施例一
在显示器件的制备过程中,会出现薄膜成膜均一性差,降低产品的显示品质的技术问题。
为了解决上述技术问题,本实施例中提供一种薄膜的修复方法,用于对薄膜进行修复,提高薄膜的均一性。所述薄膜设置在一基底上,所述薄膜具有不平整区域,所述不平整区域的薄膜远离所述基底的表面为不平整面。如图3所示,所述修复方法包括:
确定一待修复区域,使所述不平整区域完全落入所述待修复区域内;
去除所述待修复区域内的薄膜;
在所述待修复区域内填充制作所述薄膜的材料,形成修复区域,且所述修复区域的薄膜的第一表面与位于所述修复区域外围的周边区域的薄膜的第二表面的高度差在预设范围,所述高度差为所述第一表面和第二表面在垂直于所述第二表面的方向上的距离。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择