[发明专利]曝光机镜组条纹的改善方法有效

专利信息
申请号: 201610504092.6 申请日: 2016-06-29
公开(公告)号: CN105929639B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 丁磊 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 曝光 机镜组 条纹 改善 方法
【权利要求书】:

1.一种曝光机镜组条纹的改善方法,包括步骤1、提供一曝光机,所述曝光机包括至少两个依次排列的投影镜头(10),其特征在于,还包括如下步骤:

步骤2、提供一测试光罩,所述测试光罩上设有至少一个测量标记图案;

步骤3、选定所述曝光机中的相邻的两个投影镜头(10);

步骤4、提供一基板(20),利用该两个投影镜头(10)和所述测试光罩对所述基板(20)进行第一次曝光,在所述基板(20)上形成第一层测量标记(21);

步骤5、调整选定的两个投影镜头(10)之间的相对距离,使得用该两个投影镜头(10)对基板(20)进行曝光时投影到基板(20)上的图像相对于第一次曝光时投影到基板(20)上的图像在x轴方向和y轴方向上的理论偏差量分别为m微米和n微米,其中m和n均为正数;

步骤6、利用调整后的两投影镜头(10)和测试光罩,对基板(20)进行第二次曝光,在所述基板(20)上形成第二层测量标记(22);

步骤7、测量第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)在x轴方向和y轴方向上的实际偏差量;

步骤8、计算得到该选定的两投影镜头(10)的接续部偏差量,所述接续部在x轴方向上的偏差量等于第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)在x轴方向上的实际偏差量与m微米之间的差值,接续部在y轴方向上的偏差量等于第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)在y轴方向上的实际偏差量与n微米之间的差值;

步骤9、重复步骤3至步骤8,直至得到所有相邻的投影镜头(10)的接续部偏差量;

步骤10、将得到的各个相邻的投影镜头(10)的接续部偏差量输入曝光机,以补正各个相邻的投影镜头(10)的接续部偏差量,改善曝光机镜组条纹。

2.如权利要求1所述的曝光机镜组条纹的改善方法,其特征在于,所述测量标记图案为十字形。

3.如权利要求2所述的曝光机镜组条纹的改善方法,其特征在于,所述十字形的测量标记图案的横条与竖条的宽度均为15微米,长度均为300微米。

4.如权利要求1所述的曝光机镜组条纹的改善方法,其特征在于,所述投影镜头(10)的宽度为105微米。

5.如权利要求1所述的曝光机镜组条纹的改善方法,其特征在于,所述步骤5中m等于30。

6.如权利要求1所述的曝光机镜组条纹的改善方法,其特征在于,所述步骤5中n等于30。

7.如权利要求1所述的曝光机镜组条纹的改善方法,其特征在于,所述步骤7中通过显微镜测量第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)之间的实际偏差量。

8.如权利要求1所述的曝光机镜组条纹的改善方法,其特征在于,所述步骤1中投影镜头(10)的数量为7个。

9.如权利要求1所述的曝光机镜组条纹的改善方法,其特征在于,所述步骤2中测量标记图案的数量为5个。

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